Gebraucht KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600B #293824935 zu verkaufen

ID: 293824935
Film thickness measurement system.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600B Wafer Prüf- und Messtechnik Ausrüstung ist entworfen, um schnell und genau eine breite Palette von physikalischen und strukturellen Eigenschaften von Siliziumscheiben zu messen. Die integrierten integrierten optischen und kapazitiven Sensoren ermöglichen es Benutzern, mehrere Parameter mit außergewöhnlicher Präzision und Genauigkeit zu messen. KLA OP 2600B ist aus einer fortgeschrittenen Wafer-Bühne aufgebaut, kombiniert mit einem Multi-Location-Motorschlitten. Dies vereint ein hybrides Design, das sich schnell und präzise über den Wafer bewegen kann, während seine Eigenschaften gemessen werden. Das System ist auch mit fortschrittlicher Wafer-Mapping-Software ausgestattet, mit der Bediener schnell Ergebnisse plotten können, um zu aussagekräftigen Schlussfolgerungen zu gelangen. Neben der fortschrittlichen Waferstufe verfügt TENCOR OP 2600B auch über eine erweiterte Optikstation, die eine hochauflösende Bildaufnahmeeinheit umfasst. Diese Optikstation ermöglicht es dem Bediener, Waferoberflächen genau zu inspizieren, Mehrwinkelmessungen durchzuführen und die Leistung von Strukturen nach der Herstellung zu bewerten. THERMA-WAVE OP 2600B ist mit einer leistungsstarken Messmaschine ausgestattet, die angepasst werden kann, um eine breite Palette von Parametern zu messen. Es ist in der Lage, Waferdefekte, Topographie, Über-/Hinterschnitttiefe, mechanische Dotierung, bruchungerade/gleichmäßige Schichtvariation, Ätztiefe, Dotierungshomogenität und mehr zu analysieren. Es kann auch mit einer Reihe von individualisierten Werkzeugen konfiguriert werden, die es ermöglichen, eine Vielzahl von Messungen zu messen, wie kontaktlose Leitfähigkeit, Kontaktwiderstand und Spannungsabfall. Für zusätzliche Genauigkeit und Präzision enthält OP 2600B auch einen 3D-Profiler, der die Topographie an einem einzigen KE messen kann, ein Mehrzonen-Messtechnik-Werkzeug, das ein Muster von KEs über die gesamte Oberfläche des Wafers messen kann, und ein Werkzeug zur Messung der Partikelgröße. KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600B ist mit seinen leistungsstarken Messfähigkeiten, fortschrittlicher Optik und Datenerfassungsfunktionen eine effektive und zuverlässige Lösung für Qualitätskontrolle und Wafertests. Auf diese Weise können Qualitätssicherungsingenieure und Prozessingenieure die höchsten Qualitätskontrollen und Produktionserträge beibehalten.
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