Gebraucht KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OPTIPROBE 2600 DUV #9200133 zu verkaufen

KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OPTIPROBE 2600 DUV
ID: 9200133
Thickness measurement system.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OPTIPROBE 2600 DUV ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung für fortgeschrittene ultraviolette (DUV) Bildgebung und Inspektion. Es bietet verbesserte Prozesssteuerung, Ausbeute und Time-to-Market für die Spitzenproduktion von Halbleiterbauelementen. Das KLA OPTIPROBE 2600 DUV-System kombiniert fortschrittliche Optik mit einer all-reflektierenden, telefokussierten bildgebenden und spektroskopischen Mikroskopeinheit, die eine Kombination aus hoher Auflösung, hohem Durchsatz und einem überdurchschnittlichen Dynamikbereich bietet. Dies gibt ihm überlegene Bildqualität und Dynamikbereich für schwierige bildgebende Anwendungen, wie zum Beispiel diejenigen, die Low-Level-Inspektionen und Overlay erfordern. Die Maschine ist auch mit einem fortschrittlichen optischen Engineering-Paket ausgestattet, das eine Hochleistungsoptik auf Flightcase-Basis bietet. Es verfügt über ein vibrationsarmes Design für schnelles Setup und schnelle Umstellungen, einen optimierten optischen Weg und ein erweitertes mehrachsiges Positionierer-Tool. Das Asset enthält auch eine Reihe fortschrittlicher messtechnischer Funktionen, die die Prozesskontrolle und die Renditeverbesserung maximieren sollen. Es beinhaltet: Automatisierte Wafer-Messtechnik, vergleichbar mit Vollfeldsystemen, aber mit verbesserter Vielseitigkeit aufgrund seiner Vielzahl von Prozessmonitoren. Lokalisierte Messtechnik, die messtechnische Operationen auf Zielbereichen des Wafers mit erhöhter Genauigkeit und Geschwindigkeit ermöglicht. Dynamische Fokus-Tracking-Algorithmen, die bessere Bildqualität und verbesserte Präzision in Gerätefunktionen bieten. Eine integrierte Hochleistungs-Bildgebung, die die Übertragung von Bildern zwischen dem Modell und anderen analytischen Werkzeugen für weitere Auflösung und Klarheit erleichtert. TENCOR OPTIPROBE 2600DUV Ausrüstung ist eine ideale Lösung für fortgeschrittene DUV-Bildgebung und Inspektion und kann eine hocheffiziente Verarbeitung bieten, die hilft, Ertrag und Time-to-Market für kritische Halbleiteranwendungen zu maximieren. Es bietet außergewöhnliche Bildqualität und dynamische Reichweite sowie erweiterte messtechnische Fähigkeiten für eine breite Palette von Prozessen und ist ein leistungsfähiges Werkzeug, um Qualität, Erträge und Kosteneffizienz zu gewährleisten.
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