Gebraucht KLA / TENCOR / THERMA-WAVE Optiprobe 2600 #293617289 zu verkaufen

ID: 293617289
Weinlese: 1995
Film thickness measurement system 1995 vintage.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE Optiprobe 2600 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik, die für die automatisierte optische Inspektion und Messtechnik von Halbleiterscheiben entwickelt wurde. Die KLA Optiprobe 2600 verfügt über eine Kombination aus fortschrittlichen Hardware- und Softwarefunktionen, mit denen sie schnelle und zuverlässige Inspektionen von Halbleiterwafern durchführen kann. Das System verfügt über eine automatisierte optische Ausrichteinheit mit einer Präzision, die Funktionen innerhalb von 0,0002 Millimetern Genauigkeit für genaue Waferinspektion messen kann. TENCOR Optiprobe 2600 verfügt über eine hochauflösende ladungsgekoppelte Geräte- (CCD) Kameramaschine mit einzigartigen bildgebenden wissenschaftlichen Prinzipien, mit denen sie komplexe Wafertopographie wie Waferwinkel, geometrische Formen und Kanten analysieren kann. Durch seine fortschrittliche Optik und ausgeklügelte Algorithmen kann das Tool Fehler wie kurze Hosen, Öffnungen und andere nicht-visuelle Fehler schnell und genau erkennen. Der Inspektor verfügt auch über einen eingebauten Laser und Beleuchter, bietet eine verbesserte Helligkeit mit der Fähigkeit, Visualisierung von Funktionen bis zum Mikron-Niveau zu definieren. Optiprobe 2600 Wafer Test und Messtechnik Asset hat eine kompakte Bauweise und kann mit minimaler Installationszeit eingerichtet werden. Es ist einfach zu bedienen und bietet eine intuitive Benutzeroberfläche für die Waferinspektion. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine integrierte Ausrüstung zur Verwaltung von Waferinspektionsdaten, mit der Benutzer große Datenmengen schnell und genau verarbeiten können. Das System wird auch mit einem erweiterten Analysepaket geliefert, das es ermöglicht, Ergebnisse und Daten zu analysieren, um detaillierte Berichte und Metriken bereitzustellen. Darüber hinaus ist die THERMA-WAVE Optiprobe 2600 voll in der Lage, kritische Maßparameter wie Linienbreiten, Räume, Durchmesser, Kanten und andere physikalische Eigenschaften zu erfassen und zu messen. Darüber hinaus bietet es eine einzigartige Prozesssteuerungsfähigkeit, die es ermöglicht, den Wafer-Produktionsprozess ohne manuellen Eingriff zu optimieren. Schließlich kann das Gerät auch für automatisierte Fehleranalysen und Qualitätskontrollen verwendet werden, wodurch Unternehmen Zeit und Geld sparen können.
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