Gebraucht KLA / TENCOR / THERMA-WAVE Optiprobe 2600 #9227997 zu verkaufen

KLA/TENCOR/THERMA-WAVE Optiprobe 2600 ist eine fortschrittliche Wafer-Prüf- und Messtechnik. Dieses vielseitige, hochmoderne System ist für die Messung, Inspektion und Analyse der Wafertopographie ausgelegt. Es bietet Optik, Bewegungssteuerung, Datenerfassung, Analyse und Reporting und Software, die Ingenieuren und Prozessoptimierungen helfen soll. Es ermöglicht genaue, zuverlässige, wiederholbare und effiziente Messungen mikroskopischer Muster auf Halbleiterscheiben. KLA Optiprobe 2600 besteht aus einem multisensorischen headoptometrischen, atomaren Kraft-, Fluoreszenzkonfokal- und digitalen Imagingmetrologie-Subsystem. Diese innovative Einheit ist in der Lage, Größe, Form und Orientierung der Muster auf einem Wafer zu messen. Die Maschine kann die Bildung von Defekten und Verunreinigungen erkennen, so dass erweiterte Analysen und Charakterisierung von Materialien und Folien möglich sind. TENCOR Optiprobe 2600 verfügt auch über anspruchsvolle Datenerfassungs-, Datenanalyse- und Berichtsfunktionen. Das Tool verwendet Datenerfassungs-, Signalverarbeitungs- und Bildanalysetools zum Sammeln, Speichern und Verwalten von Daten. Erweiterte Software-Tools ermöglichen es Benutzern, Berichte und Analysen anzupassen und grafische Darstellungen der Daten für weitere Analysen zu generieren. Ein weiterer Vorteil der Optiprobe 2600 ist die benutzerfreundliche Bedienung. Die benutzerfreundliche Software wurde entwickelt, um Wafer-Testprozesse zu optimieren, das Schreiben und Umschreiben von Programmen zu reduzieren und Zeit und Ressourcen zu optimieren. Es ermöglicht Wafer-Profis, schnelle Entscheidungen zu treffen, Fehler zu beseitigen und effizientere Verarbeitung und Messungen zu erstellen. Abschließend ist die THERMA-WAVE Optiprobe 2600 eine fortschrittliche Prüf- und Messtechnik für Wafer, die ein hohes Maß an Präzision, Genauigkeit und Zuverlässigkeit bietet. Mit seinen ausgeklügelten Möglichkeiten zur Datenerfassung, Datenanalyse und Berichterstattung ist dieses zuverlässige Modell ideal für die Prozessoptimierung. Von fortschrittlicher Musterung bis hin zur Defekt- und Kontaminationsprüfung sorgt diese leistungsstarke Ausrüstung für genaue, wiederholbare und effiziente Messungen der Wafertopographie.