Gebraucht KLA / TENCOR / THERMA-WAVE Optiprobe 2600 #9407880 zu verkaufen

KLA / TENCOR / THERMA-WAVE Optiprobe 2600
ID: 9407880
Film thickness measurement system.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE Optiprobe 2600 ist ein modernes Wafer-Prüf- und Messtechnik-System, das es Ingenieuren ermöglicht, Merkmale auf einem Silizium-Wafer schnell und präzise auf Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu messen und zu analysieren. KLA Optiprobe 2600 verfügt über robuste Hardware, überlegene Optik und fortschrittliche Algorithmen, um Anwendern ein unvergleichliches Maß an Genauigkeit und Wiederholbarkeit bei Wafertests zu bieten. TENCOR Optiprobe 2600 verwendet ein modernes optisches Mikroskop, mit dem Bediener Bilder von Merkmalen auf Siliziumwafern erfassen können. Mit diesem Werkzeug werden die genauen Positionen und Größen der KEs auf der Oberfläche des Wafers gemessen. Optiprobe 2600 verwendet außerdem eine patentierte mehrspurige Profilierungstechnologie, mit der Anwender beliebige Abmessungen und Tiefen von Merkmalen mit höchster Präzision schnell erkennen und analysieren können. Dadurch ist es auch möglich, Waferhöhe, Winkel und Oberflächenzustand genau zu messen. THERMA-WAVE Optiprobe 2600 verfügt über mehrere erweiterte Controller, mit denen Benutzer den Wafer-Testprozess automatisieren können. Mit diesen Controllern können Benutzer mehrere Datenpunkte auf einem einzelnen Wafer sammeln und diese Informationen in einer Datenbank speichern. Dadurch können sie die Ergebnisse verschiedener Wafer vergleichen und ihren Testprozess optimieren. KLA/TENCOR/THERMA-WAVE Optiprobe 2600 erleichtert auch eine genaue Überwachung des Experiments, um sicherzustellen, dass die Leistungsparameter eingehalten werden. Für die Datenanalyse ist die KLA Optiprobe 2600 mit einer grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, die den Prozess der Korrelation von Daten aus mehreren Wafern und deren Abbildung auf verschiedene Eigenschaften automatisiert. Dies macht es einfach, Wafer über mehrere Layouts hinweg zu vergleichen. Die Benutzeroberfläche ist auch mit fortschrittlichen Algorithmen ausgestattet, die es den Betreibern ermöglichen, präzise Muster zu analysieren, die das Vorhandensein von Defekten und Unregelmäßigkeiten im Wafer charakterisieren. TENCOR Optiprobe 2600 wurde speziell entwickelt, um die geschäftskritische Leistung und den Durchsatz von Wafertests und Messtechnik im Herstellungsprozess zu maximieren. Dies macht es sehr zuverlässig und kostengünstig, die genauen Anforderungen der Halbleiterhersteller zu erfüllen.
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