Gebraucht KLA / TENCOR / THERMA-WAVE Spectra FX 200 #9215204 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9215204
Wafergröße: 8"-12"
Weinlese: 2005
Film thickness measurement system, 8"-12"
(2) Load ports
EFEM
UI
Insert type: Conversion, 8"
Data transfer: Floppy disk / DVD R/W
Operation: Mouse and keyboard
Door interlock
Recipe auto backup
Auto data deletion
Auto error log file save and classification
Queued loading (Queue recipe)
Spectroscopic ellipsometer
Spectrometer
Wavelength light source: 220 to 800 nm
Spot size: <30 µm (Thickness and Rl)
Spot size: <30 µm (Reflectivity)
2D and 3D Mapping function
Pattern recognition
Recipe copy with film library
SE and DBS Optics
Optic lens: 1x, 2x, 4x, 15x
Pattern score: FA
Screen
Recipe / Library import: TCP/IP (On-time intromit)
Wafer breakage: ≤1/1,00,000 Cycles
Signal tower
Options:
E30-98 Gem semi
E5-93 SECS II Semi
Recipe generator
Remote access capability
Carrier ID, 12"
E23, 12"
E84, 12"
E87, 12"
Safety shield for SO, 12"
HP 6122
HSMS Communication
Break beam mapper
Direct cable less power connection
E84 Enabled: OHT and AGV/RGV
OHT Lockout
Computer
Operating system: Windows XP
PHOENIX Handler
Controllers:
CPU: Pentium 4 3.0 GHz - P4 2.8 MHz
Memory: 1.024 GB DRAM
(2) Hard Disk Drives (HDD): 80 GB
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
CD_R: 40X_8X (DVD RW)
Dongle
2005 vintage.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE Spectra FX 200 ist eine moderne Wafer-Prüf- und Messtechnik. Es ist weit verbreitet in der Halbleiterindustrie zum Testen von Wafern für eine Vielzahl von Parametern, von elektrischen Eigenschaften bis zu physikalischen Defekten. Das System ist in der Lage, eine Vielzahl von Daten aus der Halbleiterscheibe genau zu erfassen und kann verwendet werden, um Fehler zu erkennen, elektrische Eigenschaften zu messen und statistische Analysen durchzuführen. KLA Spectra FX 200 besteht aus drei Hauptkomponenten. Die optische Station beherbergt das Mikroskop, Spektralphotometer und Polarimeter, die es der Einheit ermöglichen, detaillierte Informationen über die Oberfläche, Struktur und Zusammensetzung des Wafers zu erfassen. Die Interferometereinheit ist in der Lage, extrem präzise Messungen zu erfassen, einschließlich Oberflächenrauhigkeit, Formfaktor und Schichtdicke. Schließlich ist die Spektrographenstation mit einer Reihe von analytischen Instrumenten ausgestattet, die die Eigenschaften des Wafers in seiner Gesamtheit messen und analysieren können. Diese Maschine bietet eine breite Palette von Funktionen, die die Genauigkeit verbessern und die Testzeit reduzieren sollen. Es verwendet proprietäre Software und Algorithmen, um die Datenanalyse zu beschleunigen und eine bessere Genauigkeit zu bieten. Eine integrierte Datenbank erleichtert das Speichern und Abrufen von Daten, während Dual-Wellenlängen-Tests sicherstellen, dass Abweichungen zwischen den beiden Messungen leicht erkannt werden. Das Tool bietet auch eine Reihe von automatisierten messtechnischen Prozessen, die eine optimale Messung und Analyse der Ergebnisse gewährleisten. Das innovative Design des TENCOR Spectra FX 200 sorgt für eine überlegene Leistung mit weniger Fehlern und einer geringeren Ausfallrate. Seine Fähigkeit, kleinere Defekte zu erkennen und mehrere Parameter mit unglaublicher Genauigkeit zu messen, macht es zu einem der zuverlässigsten und fortschrittlichsten verfügbaren Wafertest- und Messtechniksysteme. Darüber hinaus kann es konfiguriert werden, um eine breite Palette von Wafergrößen und -typen unterzubringen, so dass es für eine Vielzahl von verschiedenen Anwendungen geeignet ist.
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