Gebraucht KLA / TENCOR UV 1050 #293733125 zu verkaufen

ID: 293733125
Wafergröße: 8"
Film thickness measurement system, 8".
KLA/TENCOR UV 1050 ist eine anspruchsvolle und hochpräzise Wafer-Messtechnik zur Prüfung und Analyse vormetallisierter Halbleiterscheiben. Es ist ideal für den Einsatz in der Qualitätssicherung einer Vielzahl von integrierten Schaltungs (IC) Prozessen, einschließlich Verarbeitung nach Back-End-Stoßen und 3D-IC Silizium-Architekturen. Das System wurde entwickelt, um hochauflösende Bilder von Wafern sowie umfassende statistische Daten bereitzustellen, die zur Identifizierung potenzieller Defekte und Fehlfunktionen verwendet werden können. KLA UV 1050 ist eine berührungslose, bildaufnahmebasierte Einheit, die Bilder der Oberfläche des Wafers bis auf die individuelle mikrostrukturelle Ebene aufnimmt. Es verwendet ultraviolette (UV) laserinduzierte Fluoreszenz (LIF), um die Oberfläche des Wafers zu beleuchten und ein Bild des Wafers bis zu einer Submikron-Auflösung zu machen. Dies wird dann verwendet, um etwaige Defekte an der Oberfläche zu analysieren. Die Maschine weist außerdem einen Laser auf, der sich auf bestimmte Stellen des Chips konzentriert und eventuell vorhandene Unvollkommenheiten erkennen kann. TENCOR UV 1050 kann sowohl einzelne als auch mehrere Bilder pro Sekunde erzeugen. Dies ist sehr nützlich für die Überwachung mehrerer Wafer auf einmal sowie für eine schnellere Fehlererkennung. Es ist auch mit einer Reihe von bildgebenden Filtern ausgestattet, die verwendet werden können, um Wafereigenschaften bei verschiedenen Wellenlängen zu beobachten. Diese Flexibilität macht es für eine Vielzahl von Anwendungsanforderungen geeignet. Die UV 1050-Software ermöglicht die Verwendung des Tools sowohl für Offline- als auch Online-Qualitätskontrollen. Der Offline-Modus ermöglicht es Benutzern, Bilder einzelner Wafer zu analysieren, während der Online-Modus es Benutzern ermöglicht, eine automatisierte Echtzeitinspektion mehrerer Wafer in einer Produktionslinie durchzuführen. Dies hilft, die Effizienz des Qualitätskontrollprozesses zu optimieren und so eine hohe Ausbeute zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt die Anlage auch über ein fortschrittliches Beleuchtungs-Subsystem, das in der Lage ist, mehrere Arten von Spotbeleuchtung zu erzeugen. Dadurch eignet es sich sowohl für die Abbildung flacher als auch nicht flacher Oberflächen sowie für extrem unebene Oberflächen. Dies macht es zu einem idealen Modell für die Inspektion von 3D-ICs, sowie gestapelte Matrize und andere komplexe Chip-Typen. Abschließend ist KLA/TENCOR UV 1050 eine vielseitige und zuverlässige Wafer-Prüf- und Messtechnik, die auf präzise Waferbilder und umfassende statistische Daten für ein umfangreiches Anwendungsspektrum ausgelegt ist. Neben seinen fortschrittlichen Bildgebungsfunktionen machen seine vielfältigen Beleuchtungsquellen und der Online/Offline-Betrieb ihn zu einem einzigartigen und wertvollen System für Tests und Qualitätskontrollen.
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