Gebraucht KLA / TENCOR UV 1050 #293759835 zu verkaufen

ID: 293759835
Wafergröße: 8"
Film thickness measurement system, 8".
KLA / TENCOR UV 1050 ist eine modernste Oblatenprüfung und Metrologieausrüstung, die einmalige Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Rückverfolgbarkeit für die Halbleiteroblatenherstellungsprozesssteuerung und Reihenmetrologie anbietet. Ausgestattet mit harter Röntgenstrahlung, optischer Streuung, Photometrie, Raman-Spektroskopie und anderen Technologien wurde dieses Wafer-Test- und Messsystem entwickelt, um die Gleichmäßigkeit kritischer Prozessparameter wie Flachheit der Waferoberfläche, Ätztiefe, Dotierstoffkonzentration und CD-Gleichförmigkeit zu migen. KLA UV 1050 wurde entwickelt, um die höchste Genauigkeit in Messungen für Sub-100nm Geometrien zu bieten. Das Gerät hat eine 10nm Auflösung sowie eine 0,5 nm Wiederholgenauigkeit. Mit seiner patentierten vertikalen Scan-Technologie ist die Maschine so konzipiert, dass sie eine hervorragende Genauigkeit und Gleichmäßigkeit über den Wafer ohne Materialbreite oder Materialeinschränkungen bietet. Darüber hinaus beseitigt seine hochpräzise horizontale Abtastung die mit Linearität oder Ungleichmäßigkeit von optischen Bauelementen verbundenen Fehler. TENCOR UV 1050 ist eine schlüsselfertige Messtechnik-Lösung, die sowohl in Front-End-Wafer-Verarbeitungslinien als auch in Backend-Messtechnik-Labors eingesetzt werden kann. Mit seinem modularen Aufbau kann er Anwendungen mit hohem Durchsatz mit bis zu 2 Wafern pro Messung und Anwendungen mit hoher Genauigkeit mit bis zu 8 Wafermessungen reproduzierbar unterstützen. Neben den automatisierten Messungen verschiedener kritischer Prozessparameter umfasst das Tool verschiedene intelligente Funktionen wie automatisierte Quadranten-Ausrichtung und automatische In-situ-Wafer-Selbstkalibrierung. Die Benutzeroberfläche von UV 1050 ist auf Einfachheit und Benutzerfreundlichkeit ausgelegt, während ihre fortschrittliche Analytik sowohl für Waferbearbeitungs- als auch für Messtechniker maßgeschneidert ist. Alle Daten werden in Standard-ASCII, CSV, SQL oder anderen Datenbankformaten gespeichert, sodass die Integration in bestehende Systeme einfach ist. Um die Datengenauigkeit zu gewährleisten, verfügt die Anlage über ein integriertes Rückverfolgbarkeitsprogramm, das Modellüberprüfungen für planare Messungen, Leistung, Wartungsaktivitäten und Ausrüstungskalibrierung verfolgt. Das System ist kompatibel mit einer Vielzahl von Substraten, wie Silizium, Glas, Polymere und Hybride, und mehrere Betriebsmodi. Mit den erschwinglichen Kosten und Innovationen von KLA/TENCOR UV 1050 ist es die perfekte Metrologie-Einheit für diejenigen, die ihren Ertrag und ihre Materialforschung optimieren möchten.
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