Gebraucht KYOWA PCD-300B #9259529 zu verkaufen

KYOWA PCD-300B ist eine Multifunktions-Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die höchste Genauigkeit, Flexibilität, Durchsatz und Leistung bietet. Es verfügt über ein dediziertes, hochauflösendes optisches Mikroskop mit einem Autofokus-System, das Wafer schnell mit einer wiederholbaren Genauigkeit von 1 μ m oder besser inspizieren kann. PCD-300B bietet bis zu 500 μ m Substratsonde für verschiedene Wafertester. Darüber hinaus verfügt es über eine leistungsstarke Vision-Einheit, die sowohl allgemeine als auch feine Mängel erkennen kann. KYOWA PCD-300B ist mit einer fortschrittlichen Wafer-Manipulationsmaschine ausgestattet, die relativ große und flexible Substrate mit bis zu 300mm x 300mm Fläche handhaben kann. Seine schnelle und präzise Bewegung ermöglicht effizientes Waferbeladen, Greifen und Positionieren. Das Tool unterstützt auch eine breite Palette von Waferträgern wie Kassette, FOUP und MAP. PCD-300B bietet eine leistungsstarke Metrologie, die darauf ausgelegt ist, dünne Wafer genau zu messen. Es ist mit einem Laserinterferenzmikroskop ausgestattet, mit dem das Modell flache Oberflächen mit einer absoluten Genauigkeit von 97,5 nm messen kann. Es ermöglicht auch die Messung von Vorwärts- und Rückwärtsgraben Isolation (STI) Strukturen. Die Ausrüstung verfügt auch über ein Interferometer, das die Form von Böden und Gräben auf dem Wafer mit Nanometergenauigkeit genau misst. Darüber hinaus bietet KYOWA PCD-300B eine umfangreiche Bibliothek mit Messrezepten, die Ingenieure schnell in ihre Prozesse integrieren können. Die prozessoptimierten Rezepturen gewährleisten eine genaue Messung anspruchsvoller Wafer-Merkmale durch Verkürzung der Gesamtdauer für Test und Messtechnik. Die Rezepte sind mit den führenden fab Softwarepaketen kompatibel und können schnell und einfach über eine LAN-Verbindung bereitgestellt werden. Abschließend ist PCD-300B ein fortschrittliches und vielseitiges Wafertest- und Messtechnik-System, das höchste Genauigkeit, Flexibilität und Leistung bietet. Es ist mit einer leistungsstarken Metrologie-Einheit, einem speziellen optischen Mikroskop und einer Wafer-Manipulationsmaschine ausgestattet, die mit einer Vielzahl von Substraten umgehen kann. Darüber hinaus ist das Tool mit einer Bibliothek von vordefinierten Rezepten zur Prozessoptimierung konzipiert und mit den führenden fab-Softwarepaketen kompatibel.