Gebraucht NANOMETRICS / BIO-RAD / ACCENT Q7 #293763618 zu verkaufen

ID: 293763618
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Metrology system, 8" 2001 vintage.
NANOMETRIE/BIO-RAD/ACCENT Q7 ist eine Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung, die fortschrittliche bildgebende Technologien verwendet, um überlegene Genauigkeit und Wiederholbarkeit im Inspektionsprozess zur Verfügung zu stellen. Dieses System ist so konzipiert, dass es die hohen Anforderungen an kritische Halbleiterprozesse erfüllt. Die ACCENT Q7 Mask & Wafer Inspection Unit bietet überlegene Bildgebungsfunktionen, die 7x Vollfeldinspektion, Spot-Scan-Funktionen bis zu 5 µm und eine beispiellose 0,10000µm Genauigkeit bei der Merkmalserkennung umfassen. Diese Maschine verwendet auch fortschrittliche Optik, Baugruppen und Kameratechnologie, um eine hochauflösende Erkennung bis zu 0,01 µm zu ermöglichen. Das Tool enthält auch erweiterte Bildanalysesoftware, um genaue und wiederholbare Ergebnisse zu liefern. Diese Software ermöglicht es dem Asset, kritische Fehler zu identifizieren, verzogene oder lichtdiffundierte Muster zu überprüfen und unterschiedliche Schattierungen in Masken und Waferoberflächen zu unterscheiden. Die Software bietet auch eine breite Palette von Funktionen, wie Maskendatenvergleich, Stapelverarbeitung und Reporting. So können Anwender Fertigungsprozesse schnell beurteilen und korrigieren, was zu erhöhter Produktqualität und geringeren Kosten führt. BIO-RAD Q7 Mask & Wafer Inspection bietet auch dedizierte Hardware- und Softwarekomponenten, die synchronisiert sind, um eine kontinuierliche hochpräzise Erkennung und zuverlässige Ergebnisse zu liefern. Es ist mit einer hochmodernen Air-Float-Scanning-Stufe und schnellen Fokussierungsfunktionen ausgestattet, die mit Computer-Aid Design (CAD) -Software betrieben werden. Dadurch kann das Modell schnellere Scanergebnisse und einen verbesserten Durchsatz liefern. Darüber hinaus verfügt das Gerät über High-Dynamic Range (HDR) Beleuchtung für helle und gleichmäßige Beleuchtung, die auch kleinste Fehler an Wafern und Masken leicht erkennen kann. NANOMETRIE Q7 Maske & Wafer Inspektionssystem kann mit einem Spektrometer integriert werden, um wellenlängenselektive Bildgebung zu ermöglichen, was seine Detektionsgenauigkeit und Auflösung weiter erhöht. Insgesamt ist Q7 Mask & Wafer Inspection Unit eine hochentwickelte Maschine, die überlegene Genauigkeit und Zuverlässigkeit im Inspektionsprozess bietet. Seine Eigenschaften machen es zu einer idealen Wahl für Hersteller, die kompromisslose Qualität in ihren Produktionsprozessen benötigen.
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