Gebraucht NANOMETRICS LYNX #9212673 zu verkaufen
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ID: 9212673
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2011
Critical dimension measurement system, 12"
Nano OCD
Loading configuration: (4) Load ports
EFEM
Metro unit
Power rating: 200 VAC~240 VAC, Single phase
2011 vintage.
NANOMETRICS LYNX ist ein anerkannter Branchenführer für Wafertests und Messtechnik. Es beinhaltet modernste Messtechnik, um Wafer-Level-Tests und messtechnische Aufgaben mit beispielloser Geschwindigkeit und Genauigkeit durchzuführen. Die Geräte bieten Echtzeit-, Hochgeschwindigkeits-, nichtinvasive und hochgenaue Messtechnik auf einer Vielzahl von Wafermaterialtypen, vor allem Silizium-Wafer und Silizium/Germanium (SiGe) Wafer. LYNX-System ist entworfen, um in enger Zusammenarbeit mit Lithographie-Ausrüstung zu arbeiten, wie durch die Steuerung der Stepper und andere verwandte Prozessausrüstung, Verbesserung der Funktionalität der Wafer Größe Gleichmäßigkeit über das Lot in High-Power-Halbleiterdesigns. Mit seinen hochauflösenden, schnelllaufenden Bildaufbereitungsfähigkeiten kann die Einheit schnelle und genaue Maße von lithographisch gebildeten Eigenschaften auf einer Oberfläche einer Oblate sowohl bei hohen Einstellungen als auch bei Niedrigvergrößerungseinstellungen bieten. Darüber hinaus umfasst die Maschine eine fortschrittliche Messmaschine, die in der Lage ist, automatisierte Mustererkennungsoperationen. Es verwendet hochoptimierte Algorithmen, um wichtige Merkmale auf dem Wafer zu identifizieren und automatisch echte Positionsmessungen zu erstellen. Dieses Verfahren ermöglicht es dem Werkzeug, Präzisionsmessungen auf Waferebene mit Mikrosekunden-Präzision zu liefern. Das Asset verfügt zudem über eine leistungsstarke Steuerungsplattform, mit der Benutzer Einrichtungsparameter problemlos entsprechend den Benutzereinstellungen konfigurieren und ändern können. Es speichert die kundenspezifischen Anforderungen, so dass das Modell schnell und einfach für die anspruchsvollsten Messtechnik-Projekte eingerichtet werden kann. NANOMETRIKLUCHS-Hardware besteht aus einer schnelllaufenden, hochauflösenden Bildaufbereitungsausrüstung, einem Präzisionsanordnungssystem, für die Einheitsbestandteile und eine schrittvereinbare Kontrollmaschine zu kalibrieren. Es ist in eine Software-Suite integriert, die eine breite Palette von Messfunktionen bietet, wie Linienbreite, Funktionshöhe und Neigung sowie Fehlerbewertung. Die Software bietet auch leistungsstarke Funktionen für die Bildsegmentierung, die automatische Erkennung und Kalibrierung von Vorrichtungen und Unterstützung für mehrere Sprachen. Darüber hinaus entfaltet die Software das volle Potenzial des Tools, indem sie fortschrittliche Optimierungstools bereitstellt, um die Leistung des Detektors automatisch zu verbessern und Lärm aus der Umgebung zu minimieren. Das Asset ist modular aufgebaut, sodass Benutzer das Modell mit zusätzlichen Komponenten konfigurieren können. Diese Skalierbarkeit ermöglicht es dem Gerät, präzise und wiederholbare Messungen für eine Vielzahl von Wafergrößen und -eigenschaften bereitzustellen. Insgesamt ist LYNX-System ein branchenführendes Messtechnik-Tool, das hochwertige Messungen mit beispielloser Geschwindigkeit und Genauigkeit liefert und gleichzeitig nahtlos in Lithographie-Geräte für Wafer-Level-Stempelgenauigkeitsmessungen integriert.
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