Gebraucht RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu #293664998 zu verkaufen

RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu Wafer-Prüf- und Messtechnik ist die neueste in einer Reihe von Präzisions-Messtechnik-Lösungen von RUDOLPH Technologies. Dieses System bietet den Branchen höchste Genauigkeit und Zuverlässigkeit für Oberflächenprofil und kritische Abmessungen von Wafern und Substraten. RUDOLPH METAPULSE 200XCU wurde entwickelt, um eine schnelle und effiziente Auswertung einer Vielzahl kritischer Abmessungen und Oberflächenprofile zu ermöglichen. Dieses Gerät verwendet ein Interferometer für das Laserprofil mit einer Wellenlänge von 1064 nm, das anspruchsvolle Messungen an den feinsten Merkmalen von integrierten Hochleistungsschaltungen ermöglicht. Diese Maschine kann mit Sub-Angstrom-Genauigkeit messen und ermöglicht präzise Ergebnisse auch auf Nanometerebene. Das Tool verfügt auch über einen leistungsstarken bildgebenden Algorithmus, der Profilbilder aus komplexen Oberflächenmerkmalen rekonstruieren und 3D-Scans des Oberflächenprofils des Wafers erzeugen kann. Dies kann dazu beitragen, Einheitlichkeit und Konsistenz im gesamten Gerät mit höherer Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Darüber hinaus ist die Empfindlichkeit des Asset einstellbar, sodass es für verschiedene Arten von Oberflächenprofilen und -mustern vielseitig einsetzbar ist. METAPULSE 200X CU bietet eine Vielzahl von anspruchsvollen Diagnostika, um die Waferstruktur aus mehreren Winkeln zu testen. Es ist das einzige heute verfügbare Metrologiemodell, das mehrere kritische Messungen wie Parametrierung, Bildgebung, Datenanalyse und Signalüberprüfung in einem Gerät integriert und eine schnelle diagnostische Analyse ermöglicht. Das System ist ebenso geschickt, um die Wirkung von Prozessbedingungen, Chemikalien oder elektrodeninduzierten Effekten auf die Oberfläche eines Wafers zu überwachen. Es kann auch Oberflächenrauhigkeit, Partikelverunreinigung und Schichthaftung von jedem Material messen, so dass es ein unschätzbares Werkzeug in der Forschung und Herstellung. METAPULSE 200 X CU ist eine wesentliche Wahl für Quantenkaskadenlaser, MEMS und fortschrittliche Hochleistungs-CMOS-Prozessentwicklung. Es ist eine zuverlässige und genaue Metrologie-Einheit, die wesentliche Daten liefert, um den Herstellern zu helfen, den Ertrag neuer Geräte zu maximieren und gleichzeitig Kosten und Markteinführungszeit zu reduzieren.