Gebraucht RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu #293767180 zu verkaufen

ID: 293767180
Weinlese: 2000
Film thickness measurement system 2000 vintage.
RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu ist eine vollautomatische Wafertest- und Messtechnik-Ausrüstung, die höchste Leistung und Genauigkeit bei der Charakterisierung und Analyse von Halbleitermaterialien und -bauelementen bietet. Das System umfasst fortschrittliche optische und elektrische Technologien sowie Datenanalysefähigkeiten, um hochzuverlässige und genaue Messungen ohne menschliches Eingreifen zu ermöglichen. RUDOLPH METAPULSE 200X CU ist einfach in andere Plattformen integriert und kombiniert mit bestehenden Systemen zu einer kompletten Wafer- oder Komponentencharakterisierungslösung. METAPULSE 200 X CU implementiert ein einzigartiges rotierendes Mikroskop und eine fortschrittliche Optik für hochauflösende Bildgebung, die eine überlegene Leistung bietet und eine schnelle und einfache Navigation durch die gesamte Palette ausgewerteter Funktionen ermöglicht. Die patentierte Online-Ausrichtungstechnologie ermöglicht eine schnelle und genaue Ausrichtung der Probe mit automatischer oder manueller Ausrichtung. Darüber hinaus verfügt es über eine verbesserte Überlagerung, die Ihnen eine bessere Genauigkeit beim Stanzen und schnelles Sondieren bietet. Das Gerät wird mit herkömmlichen interferometrischen optischen Motoren gebaut, die für Nonstop-Wafer-Tests automatisiert sind. Darüber hinaus sind die verschiedenen Sondensysteme hochempfindlich und bieten genaues, wiederholbares Scannen und schnelle Sondierung. Mit der automatischen Vakuum-Pick-and-Place-Maschine ermöglicht MetaPulse 200X-Cu die schnelle Montage und Messung von Wafern. METAPULSE 200X CU liefert echte 3D-optische Messungen mit integrierten elektrischen, Spannungs-, E-Field und mechanischen Messungen. Seine Multimode-Profiler mit optischen Köpfen, mechanischen Abtastsystemen und anderen Modulen bieten kompromisslose Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Auch erreicht es Sub-Angstrom-Auflösung mit seinen patentierten Nanoman Präzisions-Scan-Maschinen, so dass es zu den besten in der Klasse. RUDOLPH METAPULSE 200 X CU bietet eine breite Palette von Anpassungen, integrierte motorisierte Unterstützung und verfügt über Software-Tools zur Steuerung der Automatisierung und Vereinfachung von Messdaten. Darüber hinaus ist das Werkzeug mit seiner offenen Plattform parametrisch und ermöglicht Änderungen und Ergänzungen während der Fertigung. In ähnlicher Weise lässt es sich problemlos mit anderen Wafer-Prüfgeräten integrieren und ermöglicht eine komplette, auf spezifische Projektanforderungen zugeschnittene Charakterisierungslösung. Das robuste und zuverlässige RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu Asset wurde für die Prüfung von Wafern mit hoher Geschwindigkeit optimiert und bietet eine schnelle und genaue Charakterisierung von Halbleitermaterialien und -bauelementen.
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