Gebraucht RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu #9223287 zu verkaufen
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ID: 9223287
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2002
Thin film thickness metrology system, 8"
System type: SMIF
Cu Measurement
Illumination (Diode pumped ultra-fast laser):
Wave length: 800 nm, Output 1000 W
Wave length: 400 nm, Output 250 W
Plus band: 100 x 10^-15 sec
Laser incident angle: 40° Fixed
Measurement spot size:
Wave length 400 nm: 7 x 10 μm
Wave length 800 nm: 14 x 20 μm
Measurable pattern size: ≦50 μm
Measurement film:
Single layer metal film
Multi layer metal film
Measurement module:
Calibration W sample wafer
Delay stage
Microscope
ULPA Filter
Wafer positioning
X-Y Wafer stage
Full auto flat / Notch finder
Diode laser (670 nm, Max output: 3 mW)
Controller:
PC: IBM Compatible
OS: IBM OS/2 Warp (Version 3)
Keyboard
LCD, 15"
Wafer transfer module:
Robot module
Wafer handling robot
Cassette interface
Chiller module:
Cooling water flow: 5 L/min
Capacity: 5 L DI Water
Water temperature: 25°C±1°C
Supply water temperature: 25℃±5°C
2002 vintage.
RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik, die entwickelt wurde, um dimensionale, optische und elektrische Messungen bereitzustellen, um die Waferqualität zu gewährleisten. Dieses System verwendet eine innovative Laserinterferometerstufe, um schnelle, genaue und wiederholbare Messungen bereitzustellen. Die Wiederholbarkeit der von der Einheit bereitgestellten Messungen beträgt weniger als 1 μ m in X- und Y-Richtung. Die Maschine zeigt ein umfassendes Gefolge der Software einschließlich der Elektronbalkenmikrountersuchungsscan-Software, sowie Prozess und Defektanalyse. Es bietet auch ein funktionsreiches Die-to-Die-Vergleich-Paket, das den Vergleich von topographischen, elektrischen und Feature-Level-Messungen über mehrere Substrate ermöglicht. Die vom Werkzeug bereitgestellte Prozesssteuerung sorgt dafür, dass kritische Abmessungen gleichmäßig und innerhalb der gewünschten Vorgaben bleiben. Das Asset kann Parameter wie Dicke, elektrischer Kontaktwiderstand, Oberflächengüte und Prozessmerkmale messen. Es verfügt auch über eine Vielzahl von Metrologiewerkzeugen wie ein Defokuslinseninspektionsmodell, ein Lichtmikroskop und eine Spannungsmesseinrichtung. Das System verfügt zudem über eine präzise Autofokus-Funktion, die die manuelle Fokussierung des Mikroskops überflüssig macht. Die 200X-Cu Einheit ist zudem mit einer fortschrittlichen hochpräzisen Werkzeugprüfmaschine ausgestattet, die genaue und wiederholbare Werkzeug-zu-Werkzeug-Vergleichsmessungen ermöglicht. Es bietet auch ein hochpräzises Werkzeug zur Messung der Form-zu-Form und eine hochgenaue Impedanzmessung. Zusätzlich zu seinen umfassenden Messtechnik-Tools bietet das Modell auch eine konfigurierbare Hardware-/Softwareumgebung, um maximale Durchsatz- und Datenerfassungsgenauigkeit zu gewährleisten. Darüber hinaus ist das Gerät mit einer intuitiven Touchscreen-Benutzeroberfläche ausgestattet, mit der der Benutzer schnell und einfach zwischen verschiedenen Messmodi wechseln kann. Das sehr funktionsreiche RUDOLPH METAPULSE 200XCU Interferometer ist eine ausgezeichnete Wahl für Wafertests und Messtechnik. Mit seinen umfassenden Software- und Hardware-Tools und der intuitiven Benutzeroberfläche sorgt das System für schnelle, präzise und wiederholbare Messungen mit beispielloser Genauigkeit. Diese Einheit ist eine unschätzbare Ergänzung zu jeder Halbleiterherstellung und Reinraumeinrichtungen.
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