Gebraucht RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu #9234035 zu verkaufen
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ID: 9234035
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Thin film thickness metrology system, 8"
Does not include laser
2001 vintage.
RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu ist eine leistungsstarke Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die die höchste Präzision an mehreren Standorten für schnelle und genaue Gerätemessungen bietet. Dieses moderne System verfügt über eine fortschrittliche optische Einheit, hohe Messstabilität und überlegene Genauigkeit. Die fortschrittliche optische Maschine verwendet eine patentierte Kombination aus Beugungsgittern und zum Patent angemeldeter proprietärer Technologie, um sicherzustellen, dass Licht, Röntgenstrahlen, UV-Strahlung und Wärmebildsysteme in der Lage sind, Details innerhalb der Probe bis hin zur Mikro- und Nanoskala zu erfassen und zu messen. Das Werkzeug ist auch in der Lage, spektrale Effekte von Geräten wie Oberflächenrauhigkeit, Kantenrauhigkeit, Topographie und Diffusion zu messen. RUDOLPH METAPULSE 200XCU bietet eine hervorragende Messstabilität für Anwender mit einer hochgenauen Messtechnik auf Basis von Laserinterferometern, basierend auf einer patentierten Kombination aus kapazitiver und Lasertechnologie. Dies verbessert die Genauigkeit der Messungen und minimiert die Messdrift im Laufe der Zeit. METAPULSE 200X CU ermöglicht zudem eine schnelle Datenerfassung durch den Hochgeschwindigkeitsimpulsempfänger und eine leistungsstarke Onboard-Datenverarbeitung. Dies gewährleistet eine schnellere Datenanalyse und eine verbesserte Time-to-Market für Geräte. Das Modell ist in der Lage, Parameter wie Reflexion, Durchlässigkeit und Widerstand mit 80-facher Auflösung als frühere Generationen zu erfassen. RUDOLPH METAPULSE 200X CU wurde entwickelt, um eine breite Palette von Wafergrößen von 200mm (6,25 Zoll) bis zu 450mm (17 Zoll) zu unterstützen. Die Ausrüstung ist auch für eine Vielzahl von industriellen Anwendungen geeignet, einschließlich Halbleiter, Flachbildschirm, LED, medizinisches Gerät und Flachbildschirm-Technologien. Insgesamt ist RUDOLPH METAPULSE 200 X CU ein leistungsfähiges, umfassendes Wafer-Prüf- und Messsystem, das präzise Messungen an mehreren Standorten mit überlegener Genauigkeit und Stabilität bietet. Mit einer patentierten Beugungsoptik, schneller Datenerfassung und einer fortschrittlichen Messtechnik-Maschine auf Laserinterferometer-Basis bietet dieses Tool höchste Präzision und Vielseitigkeit für industrielle Anwendungen.
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