Gebraucht RUDOLPH MetaPulse 300X-CU #293635144 zu verkaufen
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ID: 293635144
Thin film thickness measurement system
Missing parts:
Robot hand
Controller.
RUDOLPH MetaPulse 300X-CU ist eine hochentwickelte Wafer-Prüf- und Messtechnik, die entwickelt wurde, um die Effizienz und Genauigkeit im Wafer-Prüf- und Messtechnik-Bereich zu maximieren. Dieses ausgeklügelte System ist in der Lage, zahlreiche Aufgaben und Prozesse durchzuführen, angefangen vom Blatt über berührungslose planare Bildgebung bis hin zum Mapping. MetaPulse 300X-CU umfasst eine breite Palette von Messfähigkeiten. Es kombiniert moderne Bildgebungstechniken wie optische und elektronenmikroskopische Verfahren mit einer Reihe von Messtechniken, wie interferometrische Lasertechniken und optische Wellenfrontanalysen. Diese anpassbare bildgebende Lösung ist auch mit leistungsstarker, automatisierter Fehlercharakterisierungs- und Analysesoftware ausgestattet, die darauf ausgelegt ist, Fehler schnell und genau zu erkennen und zu charakterisieren. Eines der attraktivsten Merkmale von RUDOLPH MetaPulse 300X-CU ist sein hoher Durchsatz und seine Geschwindigkeit. Diese Einheit ist in der Lage, bis zu 150 Wafer pro Stunde zu verarbeiten und kann mehr als 50 Parameter auf jedem Wafer messen. MetaPulse 300X-CU kann so konfiguriert werden, dass sie alle spezifischen Anforderungen an Wafer-Tests und Messtechnik erfüllt, die ein Kunde möglicherweise benötigt. Ein weiterer großer Vorteil von RUDOLPH MetaPulse 300X-CU ist seine Flexibilität und die Möglichkeit, Messtechniken, die einer Vielzahl von Kundenanforderungen entsprechen, einfach anzupassen. Diese Maschine kann für eine Vielzahl von Anwendungen wie Resistivity, Resistivity Mapping, Röntgenbildgebung, Kontaktprofilometrie, optische Streuung und Kernresonanzspektroskopie verwendet werden. Sie kann auch zur allgemeinen Waferinspektion verwendet werden, z. B. zur Bestimmung von Dicke, Oberflächenrauhigkeit und Abmessungen. MetaPulse 300X-CU liefert präzise, genaue und wiederholbare Ergebnisse mit einer möglichst geringen Abweichung von physikalischen Parametern. Dieses Gerät ist mit Spitzentechnologien ausgestattet, die High-End-Ergebnisse und eine verbesserte Produktivität ermöglichen. Die fortschrittlichen Bildanalyse-Algorithmen und die hohen Abtastraten machen es zu einer perfekten Wahl für die anspruchsvollsten Test- und Messtechnik-Anwendungen. Kurz gesagt, RUDOLPH MetaPulse 300X-CU ist ein ausgezeichnetes Wafer-Prüf- und Messtechnik-Tool, das hohe Genauigkeit, Geschwindigkeit und Zuverlässigkeit liefert. Dank seiner leistungsstarken Fähigkeiten, seiner Flexibilität und seines intuitiven Designs eignet es sich gut für jede Test- und Messtechnik-Aufgabe und ist somit die ideale Wahl für anspruchsvolle messtechnische Anforderungen.
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