Gebraucht RUDOLPH MetaPulse-II 200X-Cu #9395847 zu verkaufen

RUDOLPH MetaPulse-II 200X-Cu ist eine hochentwickelte Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Das System basiert auf einem leistungsstarken 200X Rasterelektronenmikroskop (SEM), das den höchsten Anforderungen der fortschrittlichsten Anwendungen gerecht wird. Die Einheit verwertet ein hochauflösendes Bildaufbereitungssubsystem, Hopräzisionsdeflektoren und direkte und indirekte Elektronenergiespektroskopienentdecker, hochgenaue Maße berücksichtigend. Es ist in der Lage, mit mittlerem und niedrigem Strahlstrom zu arbeiten, mit minimalem Probenschaden. Die Maschine umfasst auch ein leistungsstarkes Automatisierungs- und Datenmanagement-Tool mit kundenspezifischen Berichtfunktionen sowie ein erweitertes Muster-Staging-Asset und zwei austauschbare Kammerdesigns. Auf diese Weise kann der Anwender einfach die optimalen Messparameter für seine spezifischen Anwendungen auswählen. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine automatisierte Fehlerortungsausrüstung, mit der Benutzer Fehler in Halbleiterscheiben sowohl vor als auch nach der Fertigungsstufe schnell und genau erkennen und charakterisieren können. Der NanoProbe 200x-Cu Wafer Analyzer, das fortschrittlichste Messtechnikprodukt der MetaPulse-Familie, ist ein vollständig integriertes Rasterelektronenmikroskop, das speziell für Wafer-Pegelmessungen entwickelt wurde. Es verfügt über eine automatisierte Wafer-Handhabung und Bühnenabbildungsfunktionen, mit automatischer Hochgeschwindigkeitsautomatisierung und der Fähigkeit, Funktionsgrößen bis zu 15 nm zu messen und zu vergleichen. Es bietet auch sekundäre Elektronenbildgebung (SEI) und fokussierte Ionenstrahl (FIB) Fähigkeiten, mit digitalen Zoom- und Bildverbesserungsfunktionen für eine Vielzahl von hochpräzisen Messungen. MetaPulse-II 200X-Cu System ist in der Lage, eine große Palette von Wafer-Untersuchung und Analyse, einschließlich Fehlerüberprüfung, kritische Dimension (CD) Messtechnik, Overlay-Registrierung und Überwachung, Widerstandsmessungen, und viele andere. Durch die Bereitstellung einer flexiblen und konfigurierbaren Analyseplattform kann das Gerät in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden, von der Wafermessung bis zur Fehler- und Kontaminationsprüfung. Abschließend ist RUDOLPH MetaPulse-II 200X-Cu eine leistungsstarke Wafer-Prüf- und Messtechnik-Maschine, die speziell für den Einsatz in der Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Es verbindet ein hochauflösendes Bildaufbereitungssubsystem, Hopräzisionsdeflektoren und Elektronenergiespektroskopienentdecker, um Benutzern genau und schnell zu erlauben, feine elektronische Eigenschaften Oblaten von ON Semiconductor zu messen und zu analysieren. Das Werkzeug schließt auch einen Hochleistungsautomationsvermögenswert, Oblate NanoProbe 200X-Cu Analysator ein, und eine Reihe anderer großer Eigenschaften hat vorgehabt, Benutzer mit einer flexiblen und konfigurierbaren Plattform für die Oblatenprüfung und Analyse zu versorgen.