Gebraucht RUDOLPH MP 300 #9206062 zu verkaufen

RUDOLPH MP 300 ist eine führende Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die hohe Leistung, Genauigkeit und Effizienz bietet. Es kombiniert eine umfassende Palette von Test- und Messtechnik-Fähigkeiten zu einer einzigen integrierten Plattform, so dass Betreiber Wafer einfach auswerten und wichtige Parameter wie Defekte und Materialeigenschaften bestimmen können. RUDOLPH MP300 System nutzt die neueste optische und digitale Technologie und bietet Benutzern eine fortschrittliche, intuitive Benutzeroberfläche. Das Gerät bietet präzise und zuverlässige Testfunktionen, einschließlich Host-Computersteuerung, automatisiertes Wafer-Stage-Scanning, Echtzeit-Bildgebung und eine Reihe anderer messtechnischer Funktionen. Die anspruchsvolle und leistungsstarke motorisierte Mikroskopstufe der Maschine verbessert die Inspektionsgeschwindigkeit und bleibt unglaublich genau. Seine motorisierte Waferstufe bietet präzise Ausrichtungs- und Scanfunktionen und ermöglicht eine Hochgeschwindigkeitsprüfung von Wafern. Es verfügt über High-End-Objektive und Kameras, die genaue Bilddaten garantieren. Das Tool ist für maximale Flexibilität ausgelegt, so dass Benutzer die Testparameter für ihre Anwendung anpassen können. Es unterstützt zahlreiche Sondierungsprotokolle, einschließlich String-Scan und Sequenz-Scan, und ist in der Lage, verschiedene Parameter wie elektrische Eigenschaften, Oberflächenrauhigkeit und Filmdicke zu messen. MP-300 umfasst auch spezialisierte Software, die Benutzern hilft, Daten schnell und genau zu analysieren und zu interpretieren. Die erweiterte Datenanalyse und Anzeigen sind anpassbar und umfassen leistungsstarke grafische Darstellungsfunktionen wie Histogramme und polare Diagramme. MP 300 ist eine fortschrittliche und umfassende Wafer-Test- und Messtechnik-Komponente, die für hohe Leistung, Genauigkeit und Effizienz entwickelt wurde. Mit seiner intuitiven Benutzeroberfläche, einer leistungsstarken motorisierten Mikroskopbühne und einer Reihe spezieller Software-Tools hilft das Modell Anwendern, Wafer schnell und genau auszuwerten und wichtige Parameter zu messen.