Gebraucht SDI SPV 1010 #9061419 zu verkaufen

SDI SPV 1010 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik, die zur Beurteilung der Qualitäten von Halbleiterscheiben verwendet wird. Das Produkt bietet eine Reihe von analytischen Fähigkeiten, einschließlich Oberflächenhöhenmessung, optische Bildgebung, Oberflächenplanaritätsabbildung und Charakterisierung von Merkmalen. Die Oberflächenhöhenmessung des Systems ermöglicht eine genaue 3D-Abbildung und Messung von Waferoberflächen und ermöglicht fortschrittliche Prozesse mit extrem hoher Präzision, die eine enge Maßkontrolle erfordert. Um genaue und zuverlässige Messungen zu gewährleisten, bietet das Gerät ein automatisiertes Touch-Down-Verfahren, um eine genaue Z-Positionierung und drei Z-Achsen-kapazitive Sensoren zu gewährleisten. Die optische Bildgebung ermöglicht den Anwendern einen detaillierten Blick auf die Oberflächenmuster und die Topologie von Wafern. Dies geschieht mit der Verwendung von zwei 26 cm Bildkameras, die bis zu 20x Vergrößerung und 12,5 µm seitliche Auflösung bieten. Zusätzlich verwendet die Beleuchtungsmaschine helle Köhler-Beleuchtung, mit Weiß-LED und Leuchtstofflampe für die richtige Beleuchtung. Das Werkzeug bietet auch eine Oberflächenplanaritätszuordnung, die visuelle und quantitative Informationen über die Oberflächentopographie eines Wafers bereitstellt, einschließlich Ebenheit, Ungleichmäßigkeit und Varianz. Mit Hilfe von Algorithmen kann das Asset Funktionen (z.B. Beulen und Leerstellen) auf der Oberfläche des Wafers erkennen. Schließlich bietet die Charakterisierungsfunktion von SPV 1010 Benutzern ein Verständnis der Formen, Größen und Strukturen des Wafers. Dies geschieht durch die Verwendung verschiedener fortschrittlicher Algorithmen, wie wesentliche Eigenschaft, Merkmalsdiskriminierung und 3D-Visualisierung. Insgesamt ist SDI SPV 1010 eine robuste Wafer-Test- und Messtechnik-Lösung für die Halbleiterindustrie. Seine Oberflächenhöhenmessung, optische Bildgebung, Oberflächenplanaritätsabbildung und Charakterisierungsfunktionen gewährleisten eine genaue und detaillierte Analyse von Wafern und unterstützen so die Optimierung von Prozessen und die Identifizierung von Problemen.