Gebraucht SENSOFAR Plu Neox #9379512 zu verkaufen
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SENSOFAR Plu Neox ist eine leistungsstarke Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die Laborebene Wafer Oberflächenanalyse mit hervorragender Genauigkeit und Konsistenz bietet. Es bietet Funktionsprüfung und Messtechnik für manuelle und automatisierte Prozesse zu relativ geringen Kosten. Seine fortschrittlichen Funktionen machen es gut geeignet für eine Reihe von Anwendungen, einschließlich Wafer-Kontrolle und Qualitätssicherung, Fehlerdiagnose und Produktüberprüfung. Das Plu Neox-System verwendet eine fortschrittliche Erkennungs- und Messtechnik, die ein Array von CCD-Kameras (Charge Coupled Device) verwendet, um Bilder der Waferoberflächen zu erfassen, um eine zuverlässige Oberflächenanalyse durchzuführen. Durch den Einsatz von lichtbasierten Abbildungstechniken kann die Einheit eine große Menge an physikalischen Eigenschaften auf der Oberfläche des Wafers messen, wie Schritt oder Höhe, Profil oder Ebenheit, chromatische Aberration, Partikelgröße und Oberflächenverunreinigung. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, mögliche Fehler und Unvollkommenheiten auf der Oberfläche zu erkennen. Das Tool liefert schnelle Analyse- und Messergebnisse sowie ein umfassendes Datenerfassungsschema. Darüber hinaus können Benutzer die gesammelten Daten einfach durch die benutzerdefinierten Berichtsgenerierungs- und grafischen Darstellungstools des Assets manipulieren. SENSOFAR Plu Neox ermöglicht es Anwendern auch, statistische Unterschiede zwischen den gemessenen Bereichen einfach zu verfolgen und zu vergleichen und kann mit anderen Systemen verbunden werden, was eine Fernbedienung und -überwachung ermöglicht. Für maximale Benutzerfreundlichkeit verfügt Plu Neox über eine optimierte Benutzeroberfläche und ein hochgradig anpassbares Tool mit verschiedenen Verbesserungen, die die Betriebseffizienz verbessern. Das Modell verfügt auch über eine Reihe fortgeschrittener Testparameter, wie zum Beispiel einen Mehrpunktvergleich, mit bis zu 5.000 Messpunkten. Auf diese Weise können Wafer mit komplexen Strukturen, z.B. mit mehreren Ebenen und Schichten, exakt analysiert werden. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine intuitive grafische Oberfläche und eine Reihe verschiedener Ausgabeformate, die Anwendern helfen, den Auswertungsprozess zu erleichtern und ein besseres Verständnis der Wafer-Testergebnisse zu erlangen. Das flexible Design von SENSOFAR Plu Neox ermöglicht eine einfache Integration in andere Systeme und kann mit einer Vielzahl von Maschinen zur genauen und zuverlässigen Analyse von Parametern wie Beanspruchung, Dehnung und Deckkraft arbeiten. Alles in allem ist Plu Neox ein leistungsfähiges und kostengünstiges Wafer-Prüf- und Messtechnik-System, das für eine Vielzahl von Branchen wie Halbleiter, Optik, Automobil und Luft- und Raumfahrt geeignet ist. Seine fortschrittlichen Funktionen, kombiniert mit seinem benutzerfreundlichen Design, machen es zu einer idealen Lösung für jedes Labor.
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