Gebraucht SSM 495 CV #9113629 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9113629
Weinlese: 2000
System 2000 vintage.
SSM 495 CV ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um präzise Messungen für integrierte Schaltungsstruktur (IC) und Geräteparameter bereitzustellen. Dieses System bietet genaue und effiziente Wafertests und Messtechnik zur Unterstützung der Prozessentwicklung und der Produktionssteuerung. 495 CV besteht aus einem hochauflösenden optischen Mikroskop und einem Rasterelektronenmikroskop. Die Einheit enthält zwei unabhängige Bedieneinheiten, wobei die erste eine Mess- und Steuereinheit und die zweite die Waferaufbereitungseinheit ist. Die Mess- und Steuereinheit ermöglicht die Auswertung der Waferoberflächenbedingungen, einschließlich IC-Struktur, Geräteparameter und Fehleranalyse, sowohl für dynamische als auch statische Tests. Die Waferaufbereitungseinheit unterstützt die Vormessoberflächenvorbereitung und Nachbearbeitungsaufgaben, wie die Sputterreinigung. Die Maschine verfügt über leistungsstarke Software zur Steuerung des Mikroskops und bietet eine Reihe von Werkzeugen, die genaue Messungen und eine Bibliothek von Algorithmen für die Geräteparameteranalyse ermöglichen. Ein leistungsfähiges Bildanalysepaket ist ebenfalls in der Software enthalten, das eine verbesserte Bildbearbeitung und Bildverarbeitung für Wafer-Gerätetests und Geräteleistungsanalysen ermöglicht. Das Tool bietet eine Reihe von messtechnischen Werkzeugen einschließlich spannungsvariabler Kapazität, Atomkraftmikroskopie (AFM), Leitfähigkeitsbildgebung, Mehrstrahl-Photomasken und In-Asset-optische Profilometrie. Das Modell bietet auch spektrale Bildgebung für Micro-CT-Bildgebung, ermöglicht 3D-Abbildung von internen Strukturen von Proben. SSM 495 CV ist mit einer erweiterten Benutzeroberfläche ausgestattet, die einfach zu navigieren ist. Die Benutzeroberfläche wurde entwickelt, um eine verbesserte Benutzererfahrung zu gewährleisten und den automatischen Betrieb zu ermöglichen. Durch den Einsatz einer Vielzahl von fortschrittlichen Metrologiewerkzeugen kann die Ausrüstung genaue und präzise Messungen für die IC-Struktur- und Geräteparameteranalyse bereitstellen. Darüber hinaus bietet das System eine breite Palette von Funktionen und Werkzeugen, die die Waferoberflächenvorbereitung und Nachbearbeitungsaufgaben unterstützen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor