Gebraucht SSM 495 #293796070 zu verkaufen

SSM 495 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik für den Einsatz in mikroelektronischen Fertigungsanlagen. Das System verfügt über eine Kombination von Teilsystemen für Waferinspektion, Messtechnik und Prozessüberwachung. Für die Waferinspektion umfasst das Gerät hochauflösende Bildgebungsfunktionen sowie Fehlerüberprüfungs- und Klassifizierungsfunktionen. Auf diese Weise können Wafer-Defekte schnell erkannt und klassifiziert sowie ein Auslösemechanismus für Defektsenken bereitgestellt werden. Die Maschine enthält auch Rasterelektronenmikroskopie (SEM) und fokussierte Ionenstrahl (FIB) bildgebende Funktionen, so dass der Benutzer die Fehler auf einer detaillierten Ebene zu untersuchen. Für die Messtechnik liefert das Werkzeug eine Reihe unterschiedlicher Messarten, mit denen die elektrischen, mechanischen und optischen Eigenschaften der Wafer ausgewertet werden können. Dazu gehören elektrische Eigenschaften wie Widerstand, Kapazität und Leistung sowie optische Eigenschaften wie Reflektivität, Absorption und Transmission. Es enthält auch Funktionen für automatisierte geometrische Wafermessungen wie Höhe, Abstand und Breite. Das Asset umfasst auch eine Reihe von Bildcharakterisierungs- und Analysetools, um einen weiteren Einblick in die Wafereigenschaften zu ermöglichen. Schließlich umfasst das Modell eine Reihe spezifischer Prozessüberwachungsmerkmale, einschließlich Echtzeitmessung der Wafertemperatur, Wafer-Strukturparameter sowie Geräteleistungsüberwachung. So können Anwender optimale Prozessbedingungen gewährleisten und Abweichungen von den gewünschten Werten schnell erkennen. Die Geräte können auch mit Offline-Prozessdatenanalyse gekoppelt werden, um verschiedene Prozessparameter und Metriken im Laufe der Zeit zu bewerten. Insgesamt bietet 495 ein integriertes System zur Analyse und Charakterisierung von Wafern, mit dem Anwender Prozessfehler und potenzielle Lösungen schnell und genau identifizieren können. Das umfassende Spektrum an Funktionen für Bildgebung, Messtechnik und Prozessüberwachung bietet eine breite Flexibilität und Optimierung, sodass Anwender den Waferertrag in ihrer Produktionsumgebung maximieren können.