Gebraucht SSM 6100 #9055345 zu verkaufen

SSM 6100
ID: 9055345
System.
SSM 6100 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es ermöglicht dynamische Lichtstreuung, Ellipsometrie und totale interne Reflexionsspektroskopie auf 5 „oder 6“ Wafern. Das System verwendet hochempfindliche wissenschaftliche Optik, die hochmoderne Bild- und Datenerfassungsfähigkeit bietet. Die Einheit weist einen Lichttunnel auf, der in einem hermetisch abgedichteten Gehäuse montiert ist. Dadurch kann Licht aus dem Testbereich in ein hochempfindliches Spektrometer fokussiert werden. Der Tunnel hilft auch Streulicht und Wärmelärm im Zusammenhang mit regelmäßigen Mikroskopen zu reduzieren. Benutzer können die Maschine so konfigurieren, dass zerstörungsfreie Tests von Materialien so dünn wie 0,005mm durchgeführt werden. Zusätzlich bietet die x-y Stufe eine maximale Probenfläche von 161,2 mm x 177,8 mm bei einer Genauigkeit von 0,002 mm. 6100 bietet eine hochpräzise Datenerfassung der Waferoberfläche. Es verfügt über eine breite Palette von Lichtquellen, einschließlich LED, Hochleistungslaser und Halogenlampen. Jede dieser Quellen wurde entwickelt, um die physikalischen Eigenschaften bei hoher Auflösung effizient zu messen. Die Lesegeschwindigkeit des Werkzeugs beträgt bis zu 10.000 Messwerte pro Sekunde. Es bietet auch ein hohes Signal-Rausch-Verhältnis, so dass Benutzer hochgenaue Messungen erfassen können. Das Asset bietet eine Vielzahl von Analysefunktionen. Es enthält einen leistungsstarken Bildverarbeitungsalgorithmus zum Rendern von Bildern ohne offensichtliche Verzerrungen. Die Software von SSM 6100 bietet mehrere Analysestufen, einschließlich Multi-Scatter, integrierter Analyse und mehrfacher Bildkorrelation. Auf diese Weise können Benutzer Dünnschichtdicke und Oberflächenrauhigkeit genau messen. Insgesamt wurde 6100 entwickelt, um genaue und zuverlässige Tests von Halbleiterbauelementen bereitzustellen. Es bietet modernes Lichttunneldesign, hochpräzises Spektrometer und eine Reihe von Analysefunktionen. So können Anwender physikalische Eigenschaften von Dünnschichtschichten auf Wafern schnell und genau messen.
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