Gebraucht THERMA-WAVE TP 500 #146074 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 146074
Wafergröße: 1997
Dose monitoring metrology system, 6" to 8"
Specifications:
Upgraded to XP in 2006
Probe and pump lasers replaced: fiber laser
Usage: processed implant wafers
(2) Open cassettes
Handler: EQUIPE robot and controller
IG byte tape drive
SECS II: GEM SECS Ver 2.06
COGNEX 5000 pattern recognition system
Back plane: Eisa Bus
Laser type:
Diode 10mW class IIIB probe laser
Diode 70mW class IIIB pump laser
Ion dose measurements: high dose
Dose range:
Boron: N/A
Phosphorous: 3E14 to 2E16
Arsenic: 1E14 to 2E16
BF2: 2E14 to 2E16
Energy range: 0.5 keV to 200 keV (all species)
TW repeatability: 0.5% 1-sigma TW
Power requirements: 110-220V, 20A
Utilities requirements: CDA 1/4", (2) vacuum 1/4" (stage, robot)
Includes service / operational manual and reference block
1997 vintage.
THERMA-WAVE TP 500 ist ein Wafer-Prüf- und Messtechnik-System zur Charakterisierung von Substratmaterialien der nächsten Generation. Es verwendet fortschrittliche Infrarot-Technologie, um die physikalischen und elektrischen Eigenschaften von Halbleiter, Dünnfilm und anderen Materialien aufzuklären. Seine spezialisierten kundenspezifischen Sonden können leicht auf die Basis eines Wafersubstrats geschleudert werden, um genaue thermische Abbildungsdaten mit minimalen Auswirkungen auf das thermische Budget des Geräts zu sammeln. THERMA-WAVE TP500 nutzt die Messung thermomechanischer Eigenschaften wie thermische Kapazität, dielektrisches Verhalten und thermische Übergangsbeständigkeit, um die empfindlichen Eigenschaften von Testwafern bei der schnellen Entwicklung neuer Materialien und Prozessmethoden genau zu bestimmen. Die Infrarot-Kameramatrix bietet die Möglichkeit, Bilder mit hoher Geschwindigkeit zu erfassen und ermöglicht eine Analyse von bis zu 1000 Punkten pro Sekunde. Die Möglichkeit, bis zu 80 verschiedene Tests gleichzeitig aufzunehmen, ermöglicht eine äußerst genaue Datenerfassung und Messtechnik mit minimalem Zeit- und Ressourcenaufwand. Der hochauflösende, thermische Gradient der Temperaturdifferenz hilft, teure Waferverluste durch Materialfehler zu vermeiden. Darüber hinaus sorgen die pixeladressierbaren digitalen Eingabeoptionen des TP-500 bei minimalem Aufwand für Konsistenz und Genauigkeit der Ergebnisse. Erweiterte Datenanalyse, Synchronisation und Reporting geben dem Benutzer detaillierte Informationen über die Leistung seiner Geräte und Prozesse. Darüber hinaus bietet TP500 eine Vielzahl von Vorteilen für den Anwender. Die Kompatibilität mit verschiedenen PC-basierten Plattformen ermöglicht eine einfache Integration in bestehende Systeme. Die schnelle Online-Datenerfassung und -erfassung minimiert Zeit und Kosten für die Datenerfassung. Sein Analysemodus identifiziert schnell alle Schwachstellen oder Fehler in den Ergebnissen und gibt dem Benutzer die Möglichkeit, seine Prozesse oder Materialien schnell zu ändern, um sie sofort zu mildern. Insgesamt ist TP 500 ein leistungsfähiges System zur Prüfung und Messtechnik von Wafermaterialien. Es kann leicht in bestehende Systeme integriert werden und ist in der Lage, die kompliziertesten Details in kurzer Zeit zu erfassen. Durch seine präzisen Messfähigkeiten und die detaillierte Datenanalyse ist es ein leistungsfähiges Werkzeug zur Materialcharakterisierung bei der schnellen Entwicklung von Substratmaterialien der nächsten Generation.
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