Gebraucht VEECO 9000 #9024202 zu verkaufen

VEECO 9000 ist eine leistungsstarke Wafer-Prüf- und Messtechnik, die von VEECO Instruments Inc. entwickelt wurde. Es wurde entwickelt, um höchsten Durchsatz, Auflösung, Wiederholbarkeit und Genauigkeit für eine Vielzahl von Wafer-Anwendungen zu liefern. Dieses System umfasst mehrere fortgeschrittene Instrumente, wie das Wafer-Mapping-Mikroskop, das Profilometer, das Ellipsometer und das Atomkraftmikroskop (AFM). Diese Werkzeuge ermöglichen eine detaillierte Analyse der Oberflächentopologie, Chemie, Verunreinigungen und Defekte. Das Wafer-Mapping-Mikroskop der Einheit ist das optische Bauteil, das zwei bildgebende Erfassungsphasen aufweist: in-line und cross-line. Dieses Tool kann eine Reihe verschiedener Arten von Bilddaten sammeln, einschließlich Oberflächentopologie und 3D-Oberflächenprofil. Der Scanner kann kontinuierlich bis zu 150 mm Durchmesser und bis zu 4 Zoll dick scannen. Die Stufe kann für Inline- oder Cross-Line-Scan mit automatisierter Probenausrichtung verwendet werden. Das Proifolometer ist ein leistungsstarkes Werkzeug zur Messung der nanoskaligen Topographie. Es ist in der Lage, Submikron-Linienbreiten und -tiefen mit Nanometer-Präzision zu messen. Die Maschine bietet mehrere Betriebsarten, darunter die Fähigkeit zum schnellen Scannen über eine große Oberfläche mit hoher vertikaler Auflösung. Dieses Tool verwendet interferometrische optische Technologie, um genaue Messungen zu gewährleisten. Das Ellipsometer misst die Daten für kritische Wafer-Prozessparameter wie Dicke und Topographie. Es verfügt über eine automatische Lichtquellenkalibrierung für verschiedene Wellenlängen und kann spektrale Eigenschaften von Oberflächen so klein wie 5nm messen. Es kann auch den Brechungsindex, den Extinktionskoeffizienten, den Extinktionswinkel und den Absorptionskoeffizienten messen. Das Atomkraftmikroskop (AFM) verwendet eine Kombination von Rastersonden, um die atomare Oberflächentopologie und die Chemie von Proben zu messen. Dieses Werkzeug ist in der Lage, extrem hochauflösende Bilder von nanoskaligen Oberflächenmerkmalen mit Nanometergenauigkeit zu erzeugen. Es hat einen zweidimensionalen Scan-Kopf und kann bis zu einer x-y-z Auflösung von bis zu 0,5 nm bewegen. Der AFM ist auch mit verschiedenen Abbildungsmodi ausgestattet, einschließlich Kraftmodulationsbildgebung, Scan-Asymmetrie-Bildgebung, Phasenbildgebung und Tippmodus-Bildgebung. Neben diesen fortschrittlichen Instrumenten enthält 9000 Tool auch mehrere zusätzliche Software-Tools zur Datenanalyse und -aufsicht. Das Asset umfasst eine Benutzeroberfläche, die eine einfache Einrichtung und den Zugriff auf Daten ermöglicht. Das Modell kann auch detaillierte Berichte und Bilder aus diesen Datensätzen erstellen. Für Branchenexperten, die hohe Leistung und Genauigkeit für die nanoskalige Oberflächenanalyse verlangen, bietet die VEECO 9000 Wafer-Prüf- und Messtechnik die höchste Durchsatzleistung, Wiederholbarkeit und Genauigkeit. Durch die Kombination mehrerer leistungsstarker Instrumente bietet es eine unübertroffene Präzision zur Messung von Oberflächentopologie, Chemie, Verunreinigungen und Defekten. Von der fortgeschrittenen Bildgebung bis zur detaillierten Datenerfassung ist 9000 die optimale Lösung für eine Vielzahl von Waferanwendungen.