Gebraucht VEECO / DIGITAL INSTRUMENTS Dimension VX 340 #9283468 zu verkaufen

ID: 9283468
Atomic force profiler, 12" Head: 15 µm AFM Chuck and pre-align type: Low contact BROOKS Dual port ISO Nominal scan range: XY 65 x 65 um, Z 15 um.
VEECO/DIGITAL INSTRUMENTS Dimension VX 340 Wafer Testing and Metrology Equipment ist eine fortschrittliche Single-Wafer-Inspektions- und Messtechnik-Plattform, die in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Dieses System nutzt die neuesten technologischen Fortschritte, um höchste Genauigkeit und Präzision bei der Messung, Inspektion und Charakterisierung von Waferoberflächen zu gewährleisten. VEECO Dimension VX 340-Einheit verwendet eine Kombination aus Scannen und optischer Mikroskopie, um vergrößerte Ansichten des Wafers aus einer Vielzahl von Perspektiven zu liefern. Diese Daten können dann verwendet werden, um die physikalischen Abmessungen und Geometrie des Geräts genau zu messen, so dass der Benutzer kritische Spezifikationen bestätigen kann, die die Leistung des Endprodukts definieren. DIGITAL INSTRUMENTS Dimension VX 340 verwendet fortschrittliche bildgebende, optische und spektroskopische Messtechniken, um die physikalischen und chemischen Eigenschaften von Waferoberflächenprozessen zu charakterisieren. Es verfügt über zwei komplementäre optische und bildgebende Systeme, die eine flexible und integrierte Plattform zur Analyse einer Vielzahl von Waferoberflächen bieten. Die Maschine weist außerdem einen CCD-Bildgebungsbereich mit hohem Durchsatz auf, der eine Oberflächen- und Filmcharakterisierung größerer Bereiche eines Wafers ermöglicht. Dimension VX 340 ist in der Lage, quantitative Werte im Zusammenhang mit Waferoberflächenprozessen mit einer Vielzahl von Techniken zu charakterisieren, einschließlich Oberflächenprofilometrie, Ellipsometrie, Reflexionsspektroskopie, IR-Spektroskopie, Raman-Spektroskopie und Atomkraftmikroskopie (AFM roskopie). Diese Daten können dann verwendet werden, um die Qualität der Produkte zu beurteilen, die Auswirkungen der Verarbeitungsbedingungen zu untersuchen, Modelloberflächen für Design und Optimierung und vieles mehr. Das Werkzeug kann auch Nachbearbeitung auf dem Wafer wie Extraktion von Merkmalsdaten, Bildanalyse und Prozesscharakterisierung durchführen. Das Asset umfasst integrierte Software, die eine einfache Datenanalyse und Überprüfung der Ergebnisse ermöglicht. Dadurch entfällt die manuelle Analyse von Daten und es wird eine effizientere und genauere Möglichkeit zur Verwaltung kritischer Wafer-Messtechnik-Prozesse geschaffen. Das Modell wurde entwickelt, um genaue und zuverlässige Ergebnisse für mehrere messtechnische Anwendungen in einer Vielzahl von Branchen zu liefern. Sein robustes Design und seine vielseitigen Anwendungen machen es zu einer idealen Wahl für die Bewertung und Verarbeitung einer Vielzahl von Waferoberflächen in einer Vielzahl von Anwendungen.
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