Gebraucht ACM Ultra C #293758647 zu verkaufen

Hersteller
ACM
Modell
Ultra C
ID: 293758647
Wafergröße: 8"-12"
Wet cleaning system, 8"-12" (4) Loading ports EFEM Aligner and robot Chuck Type: Mechanical Clean chemical: DIO3, SC1, SC2, dHF, F water, IPA (2) Process robots (12) Process chambers SAPS Wafer cleaning system SAPS Mega Sonic: 0-1.5 w/cm² Uniform supersonic power density: WIWNU <2% Particle performance: ≤10 at 30 nm Metal pollution: ≤ 1 x 10^10 atoms/cm² Throughput: 225 WPH (90s recipe) Pre-isolation metal deposition (8) Chambers Nodes shrink: 65 nm - 22 nm Model / Chamber number / Chemicals / Robot number / Throughput SAPS II / 8 (3/2/3) / 3+DI+IPA / 1 / 300 WPH SAPS III / 8 (4/4) / 2+DI / 2 / 350 WPH SAPS V / 12 (3/3/3/3) / 3+DI+IPA / 3 / 600 WPH Drying method: N2 Rotary drying Liquid IPA.
ACM Ultra C ist eine hochmoderne Nassstation, die fortschrittliche Technologien und Funktionen integriert, um effiziente, präzise und zuverlässige Leistung in Halbleiterherstellungsprozessen zu bieten. Diese Nassstation wurde entwickelt, um die wachsenden Anforderungen der Branche für hohe Produktivität und Ertrag zu erfüllen und gleichzeitig eine ausgezeichnete Qualität und Kontrolle über Prozessparameter zu gewährleisten. Ultra C Nassstation ist ein vielseitiges und flexibles Werkzeug, das angepasst werden kann, um spezifische Prozessanforderungen zu erfüllen und sich an sich ändernde Anforderungen in der Halbleiterherstellungsumgebung anzupassen. ACM Ultra C Nassstation ist mit einer Reihe von innovativen Technologien ausgestattet, die seine Leistung und Fähigkeiten verbessern. Eines der Hauptmerkmale dieser Nassstation ist die fortschrittliche Automatisierungsausrüstung, die eine präzise Steuerung und Überwachung der nassen Prozessschritte ermöglicht. Das Automatisierungssystem sorgt für konsistente und zuverlässige Ergebnisse, indem menschliche Fehler und Variabilität im Prozess minimiert werden. Es ermöglicht auch die Fernüberwachung und Steuerung der nassen Station, so dass die Betreiber Prozessparameter optimieren und Probleme in Echtzeit beheben können. Ein weiteres wichtiges Merkmal der Ultra C Nassstation ist die fortschrittliche Chemikalienliefereinheit. Diese Maschine wurde entwickelt, um Chemikalien und Prozesslösungen mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit genau abzugeben. Die präzise Kontrolle der chemischen Abgabe sorgt für Gleichmäßigkeit in den nassen Prozessschritten und minimiert die Ergebnisschwankungen, was zu einer verbesserten Prozesssicherheit und Ausbeute führt. Das Chemikalienlieferwerkzeug ist mit fortschrittlichen Sensoren und Überwachungstechnologien ausgestattet, um Probleme wie chemische Lecks oder unsachgemäße Abgabe zu erkennen und zu verhindern und die Sicherheit und Integrität des Prozesses zu gewährleisten. Neben fortschrittlichen Automatisierungs- und Chemikalienliefersystemen ist die ACM Ultra C Nassstation auch mit einer Reihe von Prozesssteuerungs- und Überwachungstechnologien ausgestattet. Dazu gehören die Echtzeit-Überwachung von Prozessparametern wie Temperatur, Druck, Durchflussraten und chemischen Konzentrationen. Die Nassstation ist in der Lage, Daten dieser Sensoren zu sammeln und zu analysieren, um Prozessbedingungen zu optimieren und Abweichungen von den gewünschten Spezifikationen zu erkennen. Dieses Kontroll- und Überwachungsniveau ermöglicht es den Betreibern, fundierte Entscheidungen und Anpassungen zu treffen, um Prozessstabilität und Konsistenz zu gewährleisten. Ultra C Nassstation ist so konzipiert, dass sie benutzerfreundlich und einfach zu bedienen ist. Es verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche, mit der Anwender Prozessparameter einrichten und überwachen, Echtzeitdaten anzeigen und Probleme effizient beheben können. Die Nassstation ist zudem mit eingebauten Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um Betreiber und Umwelt vor potenziellen Gefahren durch chemische Prozesse zu schützen. Diese Sicherheitsmerkmale umfassen Not-Aus-Tasten, Lecksuchsensoren und automatisierte Abschaltprotokolle bei kritischen Ausfällen. Insgesamt ist die ACM Ultra C Nassstation ein modernes Werkzeug, das hohe Leistung, Zuverlässigkeit und Flexibilität in Halbleiterherstellungsprozessen bietet. Seine fortschrittlichen Technologien und Funktionen ermöglichen eine präzise Steuerung, Überwachung und Automatisierung von nassen Prozessen, was zu einer verbesserten Produktivität, Ausbeute und Qualität in der Halbleiterherstellung führt. Mit seiner benutzerfreundlichen Schnittstelle und robusten Sicherheitsfunktionen ist die Ultra C Wet Station eine ideale Lösung für Halbleiterhersteller, die ihre Nassverarbeitungsvorgänge optimieren und in einer wettbewerbsfähigen Branche vorn bleiben möchten.
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