Gebraucht AKRION UP-V2 HL 2000 #70444 zu verkaufen

AKRION UP-V2 HL 2000 ist eine hochpräzise Waferbearbeitungslösung von AKRION, die den Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Es bietet überlegene Leistungsstufen in Bezug auf Präzision, Genauigkeit und Wiederholbarkeit in naßchemischen Ätzprozessen für Hochleistungs-Prozessknoten. UP-V2 Nassstation HL 2000 verfügt über eine modulare Roboterplattform, integrierte nasschemische Lieferung, Niederdruck-chemische Dampfabscheidung, Hochleistungs-Backen und Feature-Ausrichtung. Das HL2000 verfügt über eine hochmoderne modulare Roboterplattform, die auf Flexibilität, Geschwindigkeit und Genauigkeit ausgelegt ist. Diese Roboterplattform ermöglicht es dem Benutzer, die Station schnell für verschiedene Tools, Aufgaben und Prozessrezepte neu zu programmieren. Das Niederdruck-System zur chemischen Aufdampfung ermöglicht es dem Anwender, gleichmäßige dünne Filme mit einer Vielzahl von Ätzchemieoptionen herzustellen. Darüber hinaus bietet das integrierte Nasschemieabgabesystem der Station eine präzise und zuverlässige Lieferung von Ätzchemikalien direkt auf das Substrat. AKRION UP-V2 HL 2000 verfügt zudem über ein Hochleistungs-Backsystem, das bis zu 12-Zoll-Wafer und 400 mm bis zu 700 mm Substrate aufnehmen kann. Darüber hinaus verfügt die Station über Funktionsausrichtungssysteme, die in nur 3 Sekunden Daten genau messen, ausrichten und speichern können. Dies ermöglicht hohe Genauigkeitsmessungen und verbesserte Wiederholbarkeit während des gesamten Prozesses. UP-V2 HL 2000 bietet überlegene Leistung und Wiederholbarkeit für Ätzprozesse, auch in komplexen Prozessabläufen. Es wurde entwickelt, um die Anforderungen der anspruchsvollsten Prozesse zu erfüllen, einschließlich des Ätzens mit hohem Seitenverhältnis, des anisotropen Ätzens mit hoher Auflösung und des Ätzens mit hoher Temperatur. Das HL2000 ist eine ideale Lösung für die Produktion von führenden Halbleiterbauelementen, die eine hervorragende Leistung und Prozesssteuerung ermöglicht.