Gebraucht AKRION UP-V2 SA 3000 #9244629 zu verkaufen

AKRION UP-V2 SA 3000 Nassstation ist eine flexible, hochautomatisierte Waferbearbeitungsplattform, die eine präzise chemische Oberflächenreinigung von Halbleiterscheiben ermöglicht. Es ist eine der am weitesten verbreiteten Nassstationen für die Back-End-Verarbeitung von Hochfrequenz (RF) -Komponenten. Diese Nassstation bietet ein umfassendes Spektrum an naßchemischen Behandlungen von einfacher Reinigung bis hin zu komplexen Ätzprozessen. UP-V2 SA 3000 bietet einen hohen Durchsatz und wiederholbare Operationen für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich Photoresist Strippen, organische Kontamination Entfernung, und Kupferband. AKRION UP-V2 SA 3000 ist mit einer vertikalen modularen Architektur konzipiert. Die Konfiguration besteht aus einem Basismodul, Deckelmodul, Waferträger und mehreren Taucherarmen. Das Basismodul unterstützt bis zu zehn vorjustierte Einzelmodule der Treiber-, Sensor- und Steuerelektronik. Kern der UP-V2 SA 3000 ist ein fortschrittlicher, Hochgeschwindigkeits-System-on-a-Chip (SoC) -Controller, der Echtzeitdaten für präzises Wafer-Tracking und -Vision bereitstellt. Die erweiterten Taucherarme bieten manuelle oder vollautomatische Bedienung zur präzisen Oberflächenreinigung von Wafern. AKRION UP-V2 SA 3000 ist mit einer Reihe unterschiedlicher nassverarbeitender Chemikalien ausgestattet, darunter neutrale und saure Lösungen, Photoresistentferner, Tenside und andere Reinigungslösungen. Die Station ist mit mehreren Ebenen von eingebauten Sicherheitsfunktionen konzipiert. Eine automatische Systemabschaltfunktion schützt Wafer vor gefährlichen chemischen Niveaus und einen Mehrfachwafer-Sicherheitsmelder für Waferstau oder verlegte Wafer. UP-V2 SA 3000 ist mit langlebigen Materialien konstruiert, die überlegene Zuverlässigkeit, Korrosionsbeständigkeit und chemische Beständigkeit bieten. Die Station verfügt auch über dedizierte Authentifizierungs- und Datenübertragungsports für die Kompatibilität mit automatisierten Wafer-Qualitätskontrollsystemen. Darüber hinaus bietet AKRION UP-V2 SA 3000 Netzwerkfunktionen für mehr Produktivität. Insgesamt ist UP-V2 SA 3000 eine zuverlässige und intuitive Nassstation für die modernste Halbleiterwaferoberflächenreinigung. Die Station ist in der Lage, Hochdurchsatzverfahren mit hochpräzisen, wiederholbaren Ergebnissen vorzuformen. AKRION UP-V2 SA 3000 ist mit mehreren Sicherheitsfunktionen für einen optimalen Waferschutz und intuitive Netzwerkfunktionen eine ideale Wahl für Halbleiter-Nassverarbeitungsanlagen.