Gebraucht DNS / DAINIPPON 820L #9408632 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON 820L Nassstation ist eine hochmoderne Ausrüstung, die eine sichere, effiziente und kostengünstige Hochgeschwindigkeitsreinigung von Substraten wie Siliziumwafern ermöglicht. Dieses Gerät verwendet einen fortschrittlichen Dry-in-Place-Prozess, der die Entfernung von dünnen Filmen und anderen Verunreinigungen von Waferoberflächen unter Beibehaltung der Integrität und Qualität des Substrats ermöglicht. DNS 820L ist in drei Modellen erhältlich: Ikanaf 8200, Lakeaf 8200 und Helios 8200. Alle diese Modelle weisen eine Hochdruck-Naßdüse zur prozesskritischen Reinigung organischer Dünnschichten und anderer Dünnschichtverunreinigungen auf, ohne die integrierten Schaltungen auf den Substraten zu beschädigen. Darüber hinaus verfügen die Geräte über Bordsteuerungssysteme, die es Anwendern ermöglichen, die Temperatur und den Druck für optimale Reinigungsergebnisse zu steuern. DAINIPPON 820L verwendet eine Kombination aus physikalischen und chemischen Prozessen, um eine Vielzahl von Verunreinigungen von Waferoberflächen zu entfernen. Zunächst legt die Station hochdruckgefiltertes Wasser auf die Oberfläche des Wafers, um Partikel der Größe 25nm oder größer zu entleeren und zu entfernen. Zweitens wird eine fortschrittliche Oxidationstechnologie verwendet, um winzige Partikel von Staub, Oxiden und anderen kleinen Verunreinigungen zu beseitigen, die durch den Hochdruckwasserstrahl nicht entfernt werden. 820L wurde so konzipiert, dass es einfach und benutzerfreundlich ist, sodass alle Anwender unabhängig von der technischen Qualifikation die Reinigungsprozesse schnell und präzise durchführen können. Darüber hinaus ist das Gerät in der Lage, große Mengen von Wafern schnell und effizient zu verarbeiten, so dass es möglich ist, große und kleine Substrate mit einer einzigen Einheit zu reinigen. Darüber hinaus ist DNS/DAINIPPON 820L mit fortschrittlichen Sicherheitsmerkmalen wie einer Sicherheitsverriegelung ausgestattet, um zu verhindern, dass Benutzer versehentlich nasse oder ätzende Substanzen in das System einbringen. Zusammenfassend ist DNS 820L Nassstation eine fortschrittliche Einheit, die entwickelt wurde, um eine Hochgeschwindigkeitsreinigung von Siliziumwafern zu gewährleisten und die Entfernung von dünnen Folien und anderen Verunreinigungen von Waferoberflächen mit minimalen Schäden zu gewährleisten. Diese Maschine nutzt einen fortschrittlichen Dry-in-Place-Prozess, der benutzerfreundlich ist und große Lose schnell und effizient verarbeiten kann. Darüber hinaus ist DAINIPPON 820L mit Sicherheitsverriegelungen für die Sicherheit und den Schutz der Benutzer ausgestattet.