Gebraucht DNS / DAINIPPON FC-3000 #293629290 zu verkaufen

DNS / DAINIPPON FC-3000
ID: 293629290
Wet station.
DNS/DAINIPPON FC-3000 ist eine Nassstation, die entwickelt wurde, um fortgeschrittene funktionelle Beschichtungs- und Schleifprozesse für Halbleiterscheiben bereitzustellen. Es besteht aus mehreren Stufen, die durch flüssige Lösungen mit dem Wafer interagieren und eine präzise Manipulation der mikroskopischen Merkmale während der Produktion ermöglichen. DNS FC3000 beginnt mit einem Liquid Dispensing System, das die notwendigen Flüssigkeiten in die verschiedenen Stufen der Nassstation liefert. Dieses System kann eine Vielzahl von Lösungen liefern, die an die spezifischen Anforderungen des zu bearbeitenden Wafers angepasst sind. Die in dieser Stufe aufgebrachten Flüssigkeiten sind für Schichtbildung, Ätzen und andere Konditionierungsprozesse verantwortlich. Die nächste Stufe der nassen Station ist Masking. Dabei wird ein spezielles Maskierungsmaterial auf den Wafer aufgebracht, um das Aufbringen von Flüssigkeiten auf einen bestimmten Bereich zu begrenzen. Dies trägt dazu bei, dass die Textur, Ausrichtung und andere Spezifikationen der resultierenden Oberfläche genau und konsistent sind. Die dritte Stufe der nassen Station ist Contamination Control. Dieser Teil des Herstellungsprozesses soll verhindern, dass Fremdpartikel in die Flüssigkeiten gelangen und sich auf den Wafer absetzen. Kritische Ereignisse wie das Ätzen erfordern eine nicht kontaminierte Umgebung, um genau ausgeführt zu werden. Reaktionstanks sind auch ein wichtiger Bestandteil von DAINIPPON FC 3000. Diese Tanks dienen zum Ätzen, Texturieren und anderen Reaktionen auf der Waferoberfläche. Die Behälter werden so gesteuert, dass die Temperatur konstant bleibt, sodass die Reaktionen korrekt ablaufen. Die vierte Stufe der Nassstation ist Final Grinding. Diese Stufe ist verantwortlich für das Polieren der Waferoberfläche, die Beseitigung von Unvollkommenheiten und eine ästhetisch ansprechende Oberfläche. Am Roboterarm werden Spezialwerkzeuge befestigt, um den Wafer zu polieren, ohne Schaden anzurichten. Die letzte Stufe von DAINIPPON FC3000 ist Drying. Nachdem der Wafer die anderen Stufen durchlaufen und poliert hat, müssen Restflüssigkeiten entfernt werden, bevor er in den nächsten Abschnitt des Produktionsprozesses gelangen kann. Die Trocknungsstufe verwendet hochgeschwindigkeitserwärmte Luft, um die Flüssigkeiten schnell und gründlich zu entfernen, bevor sich der Wafer bewegt. DNS/DAINIPPON FC3000 ist eine zuverlässige und leistungsfähige Nassstation, die für Präzision und Konsistenz im Herstellungsprozess von Halbleiterscheiben entwickelt wurde. Seine mehreren Stufen interagieren mit dem Wafer auf verschiedene Weise und bieten eine effektive Plattform für fortgeschrittene funktionale Beschichtung und Schleifen.
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