Gebraucht DNS / DAINIPPON FC-3100 #9033293 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9033293
Wet station, 12"
Operating system: Windows
Bath configuration: LD/ULD-HS-HQDR-SC1-HQDR-HF-QDR-LPD-LPD
Load / Unload port: (2) Common
Mecha:
Motor: Servo motor
Robot
Chuck: Coating
H2SO4 Bath:
Material: Quartz
Heater
Filter: 30 nm
Use chemical: H2SO4 + H2O2
Wafer guide: Quartz
HQDR Bath:
Material: Quartz
Use chemical: DIW
Wafer guide: Quartz
SC1 Bath:
Material: Quartz
Heater
Filter: 30nm
Use chemical: NH4OH + H2O2
Wafer guide: Quartz
HQDR Bath:
Material: Quartz
Use chemical: DIW
Wafer guide: Quartz
HF Bath:
Material: PEEK
Heater
Filter: 30nm
Use chemical: HF
Wafer guide: PEEK
QDR Bath:
Material: TEFRON
Use chemical: DIW
Wafer guide: PEEK
LPD:
Material: TEFRON
Heater
Use chemical: DIW + 1PA + HF
Wafer guide: PEEK
2007 vintage.
DNS/DAINIPPON FC-3100 ist eine Nassstation, die in der Halbleiterlithographie und -ätzung verwendet wird. Es ist eine Ausrüstung, die einen kombinierten ultrahochauflösenden Stepper und Scanner enthält, der über einen erweiterten CCD-Controller verfügt, der zum Ätzen von Halbleiterchips verwendet wird. Seine Präzision wird durch die Kombination einer X-Y-Stufe und einer Z-Achse mit langem Hub aufrechterhalten. DNS FC3100 verfügt über ein dynamisches Mehrfachlinsensystem, das die Präzision bietet, komplizierte Mikrochips zu erstellen. Jede der drei Optik ist so programmiert, dass sie eine unterschiedliche Fokusebene liefert. Die Optikeinheit wird dann mit einer Präzisionsstufe gekoppelt, die eine Feinabstimmung der verschiedenen Parameter in der Maschine ermöglicht. Die Scanstufe verwendet eine X-Y-Stufe mit einer Z-Achse mit langem Hub, um eine Gesamtgenauigkeit von bis zu 1 µm zu erhalten. DAINIPPON FC 3100 verfügt über ein automatisiertes Substratbeladewerkzeug zum Be- und Entladen eines Substrats in den Betriebsbereich. Die Substratbeladung ist mit Sensoren zur Überwachung der Waferplatzierung ausgestattet. Die Sensoren bieten Alarme während des Be- und Entladens, um den Bediener auf Fehlstellungen oder Abweichungen von bestimmten Parametern hinzuweisen. Ein optisches Inspektionsmodell ist mit FC-3100 integriert, um Defekte auf dem Substrat zu erkennen. Dieses Gerät ist mit hochgenauen Objektiven und Bildverarbeitungssoftware ausgestattet, um Fehler vor dem Entfernen des Substrats aus dem Operationsbereich zu identifizieren. Diese Fehlererkennung wird dann mit einem automatisierten Hardwaresystem kombiniert, das defekte Wafer vom Betriebsbereich inspiziert und trennt. DAINIPPON FC-3100 verfügt auch über eine Umweltsteuereinheit, um die Betriebstemperatur zu halten. Diese Maschine sorgt für eine präzise Temperaturregelung der Optikräume von Schritt- und Scanner und sorgt dafür, dass alle Größen für den Betrieb optimiert sind. Schließlich ist der DNS FC 3100 mit Sicherheitsfunktionen wie einem Handjoggcontroller ausgestattet. Dieser Jog-Controller ermöglicht es dem Bediener, sorgfältig durch die Bühne zu navigieren und die Optiksysteme zu koordinieren. Darüber hinaus wird an DNS/DAINIPPON FC 3100 ein emissionsarmes Stir-Vakuum-Werkzeug angebracht, um sicherzustellen, dass Öl, Staub und Kontamination gemäß den Prozessspezifikationen kontrolliert werden. Abschließend ist die FC 3100 Nassstation eine hochentwickelte und fortschrittliche Anlage, die eine hochgenaue Verarbeitung von Halbleiterchips ermöglicht. Die Kombination aus automatisierten Optiksystemen, Präzisionsstufen, Umweltkontrolle, automatisiertem Wafer-Handling und Sicherheitsfunktionen macht es zu einer idealen Wahl für Lithographie- und Ätzoperationen.
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