Gebraucht DNS / DAINIPPON / SCREEN WS-820L #293774674 zu verkaufen
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ID: 293774674
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2009
Wet station, 8"
CIM
SMIF Interface
Quartz / PFA Coater:
Tank 1: LD
Tank 2: CHCL
Tank 3: SC1
Tank 4: QDR
Tank 5: EDR
Tank 6: SC2
Tank 7: QDR
Tank 8: HF
Tank 9: EDR
Tank 10: LPD
Tank 12: ULD
2009 vintage.
DNS/DAINIPPON/SCREEN WS-820L ist eine Nassstation, die in Halbleiterherstellungsprozessen für Reinigungs- und Nassverarbeitungsanwendungen verwendet wird. Diese Hochleistungs-Nassstation wurde mit fortschrittlicher Technologie und Funktionen entwickelt, um den anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht zu werden. Herzstück der DNS WS-820L Nassstation ist die präzise Steuerung, die eine genaue und wiederholbare Bearbeitung von Wafern ermöglicht. Das System ist mit fortschrittlichen Sensoren und Reglern ausgestattet, um wichtige Parameter wie Temperatur, Durchflussraten und chemische Konzentrationen zu überwachen und zu regeln, um konsistente und zuverlässige Ergebnisse zu gewährleisten. Diese Steuerung ist wesentlich für die Erzielung einer hohen Prozessgleichmäßigkeit und -qualität in der Halbleiterherstellung. Zu den Hauptkomponenten von SCREEN WS-820L Nassstation gehören die chemische Abgabeeinheit, Wafer-Handling-Maschine, Prozesskammern und Abgasanlagen. Das Chemikalienlieferwerkzeug ist verantwortlich für die präzise Vermischung und Lieferung von Prozesschemikalien in die Prozesskammern. Es ist mit Pumpen, Ventilen und Sensoren ausgestattet, um den Chemikalienstrom zu steuern und eine präzise Dosierung zu gewährleisten. Das Wafer Handling Asset WS-820L Nassstation ist so konzipiert, dass Wafer durch die verschiedenen Prozessschritte sicher transportiert werden können. Es umfasst Funktionen wie Roboterarme, automatisierte Be- und Entlademechanismen und erweiterte Wafer-Mapping-Funktionen für die genaue Positionierung von Wafern in den Prozesskammern. Das Wafer Handling Modell ist entscheidend für die Minimierung von Waferbruch und Verschmutzung während der Verarbeitung. Die Prozesskammern von DAINIPPON WS-820L Nassstation sind für spezielle Prozessschritte wie Reinigung, Spülung und Trocknung von Wafern ausgelegt. Diese Kammern sind aus Materialien aufgebaut, die mit einer Vielzahl von Prozesschemikalien kompatibel sind und eine hervorragende Chemikalienbeständigkeit und gleichmäßige Strömungsverteilung bieten. Die Prozesskammern sind auch mit Heiz- und Kühlfunktionen ausgestattet, um die Temperatur der Prozesslösungen zu steuern. Die Abgasanlagen von DNS/DAINIPPON/SCREEN WS-820L Nassstation sind dafür verantwortlich, während der Verarbeitung entstehende Dämpfe und chemische Dämpfe zu entfernen, um eine sichere Arbeitsumgebung zu erhalten. Die Abgasanlagen sind mit Wäschern, Filtern und Überwachungsgeräten ausgestattet, um schädliche Gase einzufangen und zu neutralisieren, bevor sie in die Atmosphäre abgegeben werden. Die richtige Auslegung der Abgasanlagen ist für die Einhaltung der Umweltvorschriften und die Gewährleistung der Bedienersicherheit unerlässlich. Neben den Kernkomponenten verfügt die DNS WS-820L Nassstation auch über eine benutzerfreundliche Schnittstelle, mit der Anwender Prozessparameter einfach programmieren und überwachen können. Das System ist mit einem Touchscreen-Display, einer intuitiven Software und Fernzugriffsfunktionen für eine effiziente Bedienung und Fehlerbehebung ausgestattet. Die Benutzeroberfläche bietet außerdem Echtzeit-Feedback zur Prozessleistung und zum Einheitenstatus, um die Gesamtproduktivität zu verbessern. Insgesamt ist SCREEN WS-820L Nassstation eine hochmoderne Lösung für die Nassverarbeitung von Halbleitern. Seine fortschrittliche Steuerungsmaschine, präzise chemische Lieferung, robuste Wafer-Handhabung und effiziente Abgassysteme machen es zu einer idealen Wahl für großvolumige Halbleiterherstellungsanlagen. Durch konsistente und zuverlässige Ergebnisse hilft WS-820L Nassstation Halbleiterherstellern, höhere Erträge zu erzielen, die Prozesssteuerung zu verbessern und die Produktqualität zu verbessern.
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