Gebraucht DNS / DAINIPPON SU-3000 #293809737 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 293809737
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
Wafer cleaner, 12"
(4) Chambers
(4) Chemical cabinets: NH4OH, BHF, IPA
(2) Handling systems
Overhead transport system
Indexer unit
(4) Load ports
YASUKAWA XU-ACT153L-B01 ID/R Unit
Transfer unit
YASUKAWA XU-RC615L-A12 CR Unit
Fan Filter unit (FFU):
Type: 2T-445950GGE-SWALY
Material: Fluoridation resin filter
Capacity: 99.995 <% / 0.1 μm
Range: 0~0.4 m/sec and 0~0.6 m/sec
Process chamber: (4) MPC Chambers
Shield plate:
Shield plate IPA Dispense: IPA
Shield plate DIW Dispense: CO2 Water
Shield plate nozzle drain: CO2 Water
Shield plate nozzle drain: IPA
Scan nozzle 1:
Chemical 2 Dispense: DHF
DIW Dispense: CO2 Water
Chemical 4 Dispense: Bulk HF
Port 20 DHF reclaim line valve open: DHF
Port 21 ACID drain line valve close: Acid
Port 20 N2 Purge
Chemical 2 Nozzle drain: DHF
DIW and chemical 4 nozzle drain: CO2 Water and bulk HF
Scan nozzle 2:
DIW Dispense: CO2 Water
Nano spray: N2
Nano spray DIW Dispense: CO2 Water
Nano spray chemical 3 dispense: SC-1
Nano nozzle 2 chemical 3 dispense: SC-1
Nano spray composite: N2 and CO2 Water
Nano spray composite: N2 and SC-1
Scan nozzle 2 chemical 3 nozzle drain: SC-1
Backside nozzle:
Chemical 2 dispense: DHF
Chemical 3 dispense: SC-1
DIW Dispense: CO2 Water
Backside nozzle 5 Chemical 4 Dispense: Bulk HF
Backside umbrella nozzle dispense: CO2 Water
Backside nozzle pre dispense
Backside nozzle drain
Fixed nozzle:
Chuck rinse nozzle dispense: CO2 Water
Spin base rinse nozzle dispense: CO2 Water
Shield plate surface rinse nozzle Dispense: CO2 Water
Fixed nozzle dispense: CO2 Water
Spin base:
Material: PCTFE
Spin motor: AC Servo motor
Maximum revolution: 3000 RPM
Maximum acceleration: 1000 RPM/sec
Revolution accuracy: ±3 RPM (at 3000 RPM)
Chuck:
Chuck drive: Pulse motor
Material: PCTFE, ETFE
Wafer detection: Detection by chuck pins
Shield plate:
Material: HT-PVC
Revolution drive: AC Servo motor
Maximum revolution: 3000 RPM
Maximum acceleration: 1000 RPM/sec
Revolution accuracy: ±3 rpm (at 3000 RPM)
Up / Down shift: AC Servo motor
Minimum distance to the wafer surface: 0.3 mm
Splash guard:
Chemical collection structure
Material: PTFE
Up / Down shift: AC Servo motor
Shutter:
Drive: Air cylinder
(2) Chemical cabinets
Temperature control of low temperature
Chemical used: HF, NH4OH, IPA
Chemical mixing ratio: Premix
Range of temperature control: 20°C~35°C
Chemical filter: Chemlock housing, 0.1 μm
Circulation pump: Pillar
KOMATSU NES-2123-7 Circulator
KOMATSU GRS-612 Temperature controller
E-Flow:
Module: SD16L-24S W
HORIBA OE-960CE Resistivity meter
Resistivity sensor: ESD-001C-T
Sensor cable: CK-10M
Sensor holder: EFA-30
Relay: MY2N-CR DC24V
Fire extinguisher controller: Auto pulse 542R
2008 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3000 Nassstation ist eine hocheffiziente und zuverlässige Nassätzanlage, die für eine Vielzahl von Anwendungen in der Ingenieur- und Fertigungsindustrie eingesetzt wird. Es ist mit einer gepulsten HF/HCl-Ätzkammer, zwei unabhängigen Arbeitstanks, einem Hochdruck-Flüssigkeitszufuhrsystem und einer integrierten Paletteneinheit für verbesserte Materialbeladung und -handhabung ausgestattet. Das einzigartige Design von DNS SU-3000 bietet Anwendern eine erhöhte Sicherheit, eine verbesserte Qualität der Ätzergebnisse und eine signifikante Verringerung der Abfallstoffe. Die HF/HCl-Ätzkammer ist so konzipiert, dass sie eine präzise Ätzkontrolle und Genauigkeit bietet und gleichzeitig die zum Betrieb benötigte Energie minimiert. Das Innere der Kammer ist mit einem korrosionsbeständigen keramischen Material beschichtet, um vor Erosion zu schützen und einen konsistenten Ätzprozess zu gewährleisten. Die Anaglyphenoberfläche ist mit einer Hydrographie-Geometrie und Längsparabel gebaut und bietet Benutzern einheitliche Ätztiefen und eine Oberflächengüte von höchster Genauigkeit und Präzision. Neben der HF/HCl-Ätzkammer umfasst die DAINIPPON SU 3000 zwei unabhängige Arbeitstanks, die jeweils unterschiedliche Ätzprozesse unterstützen. Aufgrund der Konstruktion jedes Behälters können Materialien, die in sie gelegt werden, leicht von einem zum anderen bewegt werden, was einen schnellen Methodenaustausch und eine chemische Mischung ermöglicht. Jeder Tank ist mit einer peristaltischen Pumpe und einer Druckmaschine ausgestattet, um HF/HCl-Lösungen mit einem maximalen Druck von 50 bar (725 psi) zu liefern. DNS SU 3000 enthält auch ein integriertes Palettenwerkzeug für verbesserte Materialbeladung und -handhabung. Die Palette ist ergonomisch gestaltet, um ein einfaches Be- und Entladen der Ätzmaterialien zu ermöglichen. Das Asset wurde entwickelt, um Ausfallzeiten deutlich zu reduzieren und eine wesentlich höhere Anzahl von Prozessen in kürzerer Zeit durchzuführen als bei anderen Nassätzsystemen. Insgesamt ist SU-3000 Nassstation ein Top-of-the-Line-Ätzmodell, das sich gut für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen eignet. Die Ausrüstung bietet erhöhte Sicherheit, verbesserte Qualität der Ätzergebnisse und eine signifikante Verringerung der Abfallstoffe. Es wird von strengen Qualitätskontrollstandards unterstützt und erfüllt höchste Ansprüche an Zuverlässigkeit und Präzision.
Es liegen noch keine Bewertungen vor