Gebraucht DNS / DAINIPPON SU-3100 #293627839 zu verkaufen
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ID: 293627839
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Wafer cleaning system, 12"
(8) Chambers
(4) Load ports
Powerbox
Densimeter
E-Flow
DVR
Chemical supply: HF, H2SO4, H2O2
Nozzle:
Chemical (Spin 1-8)
Side rinse
E-Flow (Spin 1-8 and front)
Nano spray
Rinse back rinse
UMC Controller
Index R IDA
(2) CR Stages
Spin unit:
Left: 5, 6, 7, 8
Right: 1, 2, 3, 4
IR:
W/F Sensing penetration type: Photo sensor
Arm Y-Axis servo-motor
OARM X, Y-Axis stepping-motor
CR:
W/F Sensing penetration type: Photo sensor
ARM Y,Z AC Servo-motor
Missing:
Hard Disk Drive (HDD)
Fire suppression
DI Resistivity sensor: AS
Flow meter sensor: RK
Power supply: 220 VAC, 60 Hz, 3 Phase
Full Load: 32kVA, 88A, 60 Hz
3 Wires with GND/PE
Breaker rate: 110A
SCCR: 10kA
2007 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3100 ist eine Nassverarbeitungsstation, die reaktive Ionenätz- (RIE) und CMP-Technologien (Chemical-Mechanical Polishing) verwendet, um Produkte aus Halbleitermaterialien herzustellen. Die Nassstation ermöglicht präzise und reproduzierbare Ätz- und Polierprozesse, um qualitativ hochwertige Substrate mit minimaler Oberflächenrauhigkeit zu erhalten. Die Nassstation besteht aus einer chemisch beständigen Edelstahlkammer mit einer internen Vakuumeinrichtung, einer Ionenquelle, einem Widerstandsheizelement, einem mechanischen Waferträger und einer Reihe von Prozessgasen. Die Kammer ist auch mit einer Reihe von Anschlusssteckern für den Anschluss an andere Vakuumsysteme und Prozesskomponenten ausgestattet. Die Kammer umfaßt auch ein Lastschloß zum Ein- und Ausbringen von Wafern aus der Kammer, ohne sie Umgebungsdruck auszusetzen. Die Ionenquelle wird verwendet, um die Prozessgase zu bestromen und ein Plasma mit kontrollierbarer Dichte und Zusammensetzung zu erzeugen. Das Heizelement dient zur Steuerung von Druck und Temperatur während des Ätzvorgangs, während der mechanische Waferträger dafür sorgt, dass die Wafer während des gesamten Prozesses sicher gehalten werden. Die Kammer weist ferner Hochvakuumpumpen zur Evakuierung der Prozessgase sowie eine Entlüftungsöffnung zur Entlüftung der Nebenprodukte der Ätzreaktion auf. Um eine sichere, saubere Arbeitsumgebung zu erhalten, ist die Nassstation auch mit einer Luftwäsche und einer Stickstoffautomatik ausgestattet. Die Luftscheuermaschine entfernt Partikel und andere Verunreinigungen aus der einströmenden Luft, während das Stickstoffabgabewerkzeug eine konsistente Prozessatmosphäre innerhalb der Kammer aufrechterhält. Die Nassstation bietet hochgenaue Ätzfähigkeiten und eine fortschrittliche Prozessüberwachung, die die Produktion von Produkten mit extrem hoher Genauigkeit und Wiederholgenauigkeit ermöglicht. Es ist in der Lage, verschiedene Materialtypen wie Metalle, Oxide, Polymere und Verbindungen zu verarbeiten. Darüber hinaus ist es mit einer modularen Architektur konzipiert und kann leicht aktualisiert werden, um die Kundenbedürfnisse zu erfüllen.
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