Gebraucht DNS / DAINIPPON SU-3100 #293813602 zu verkaufen
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ID: 293813602
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2014
Wafer cleaning system, 12"
Indexer robot
(4) FOUP Carriers
(6) Auxiliary units
Front PF:
Shuttle unit
Reverse unit
TOWER1: MPC1/2
TOWER2: MPC3/4
Rear PF:
Center robot
TOWER3: MPC5/6
TOWER4: MPC7/8
Side Cabinet:
DDI SC Chemical supply system
Chemical type: NH4OH, H2O2, HCL
HT‑H2SO4 SC Chemical supply system
External cabinet:
(2) DHF CC Chemical supply systems, mixing rate: HF49% : DIW = 1–50 : 500
(2) dSPM+ CC Chemical supply systems, circulation temperature: RT–50°C
SPM Drain cooling system
NanoA Pump unit
IPA CC Supply system
E‑Flow unit
Main power box
Power supply
2014 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3100 Nassstation ist eine spezielle Reinigungsausrüstung, die für den Halbleiterherstellungsprozess entwickelt wurde. Diese Nassstation kombiniert eine Reihe von Technologien mit Präzisionslieferung, um eine hochpräzise Reinigungsleistung zu erzielen. Es verfügt über ein fortschrittliches Vision-System, das obere und untere Inspektion von Wafern bietet, und es enthält manuelle und automatisierte Stationsfunktionen, die auf die Bedürfnisse des Benutzers zugeschnitten werden können. DNS SU-3100 besteht aus einer Haupteinheit mit Quellkammer, Polymerreinigungskammer, Gaseinspritzkammer und Waschkammer. Die Quellkammer ist für einen gleichmäßigen Chemikalienstrom zu Reinigungszwecken auf die Wafer ausgelegt. Die Polymerreinigungskammer verwendet einen fortschrittlichen Filter, um Feststoffe zu trennen, bevor sie die Oberfläche der Wafer erreichen, so dass die Oberfläche sauber und frei von organischen Kontaminationen ist. Die Gaseinspritzkammer fügt während des Reinigungsprozesses reaktive Gase hinzu, um die Chemie für jede Bearbeitungsstufe zu optimieren. Die Waschkammer ist auch mit programmierbaren Ventilen ausgestattet, um den Chemikalienstrom über den gesamten Wafer zu steuern. Dies ist eine erweiterte Funktion, die eine höhere Kontrolle und Genauigkeit bei der Reinigung mehrerer Wafer an mehreren Stellen ermöglicht. Die Kombination dieser Komponenten und der Gerätebetrieb gewährleisten eine hohe Leistung bei minimierter Prozessabweichung. DAINIPPON SU 3100 enthält auch eine Reihe von Zusatzgeräten, um die Vielseitigkeit und Effizienz dieser Maschine zu erhöhen. Dazu gehören ein chemischer Vorhang zur Reduzierung von chemischem Spritzer und ein Multi-Venturi-Reinigungswerkzeug zur Minimierung des Kontaminationsrisikos. Es gibt auch eine schnell trocknende Funktion, um das Risiko der Partikelmigration zu beseitigen und eine Turboflash-Trocknungsanlage, um die Oberfläche des Wafers schnell und effektiv zu trocknen. DNS SU 3100 verfügt auch über eine vollständige Automatisierungsfunktion. Auf diese Weise kann der Benutzer Jobs programmieren und Prozessparameter aus der Ferne und unterwegs anpassen. Dies ermöglicht schnellere und präzisere Modelloperationen und sorgt für optimale Leistung bei minimalem Eingriff. Darüber hinaus umfasst SU 3100 fortschrittliche Überwachungs- und Feedback-Systeme, die es ermöglichen, Echtzeit-Prozessanpassungen für maximale Ergebnisse vorzunehmen. Insgesamt ist DAINIPPON SU-3100 Nassstation eine leistungsstarke und vielseitige Ausrüstung, die den Anforderungen des Halbleiterherstellungsprozesses gerecht wird. Mit seinem breiten Spektrum an Funktionen, fortschrittlicher Präzisionslieferung und voller Automatisierung ist dieses System in der Lage, die höchsten Leistungsstufen und Genauigkeit in seiner Klasse zu erreichen.
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