Gebraucht DNS / DAINIPPON SU-3200 #293828146 zu verkaufen
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ID: 293828146
Wafergröße: 3"
Weinlese: 2014
Wafer cleaning system, 3"
(8) Chambers
(4) Load port
Chemical: DHF, NH4OH ,H2O2 ,IPA ,03
Overhead Transport System (OHT)
SINFONIA TECHNOLOGY SELOP12F25-S7DB033F
Double robot arms
Process chamber unit:
Tower-1 : MPC-2,3
Tower-2 : MPC-4,5,6
Tower-3 : MPC-7,8,9
Chemical Cabinet:
SC-1
DHF
O3
CO2
CDA N2
DIW
PCW
FOUP Load port:
(4) Load port
FOUP Type: No N2 Purge
SINFONIA TECH NOLOGY
SELOP12F25-S7DB033F
30D65K-C212 Servo pack
Double robot arms
Material: Ceramic
KAWASAKI
3NT 420B-B029
NT4203452
XU-ACT153L-H01
YASUKAWA ELECTRIC CORP
30D65K-C212 Servo pack
Material: Ceramic
KAWASAKI
3SD940S-A006
SD9400150
E FLOW
e Flow SD90B-R11-F-VB
MPC chamber: 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9
Scan nozzle - 1:
Nozzle - 1: DHF (LFC), DIW(LFC)
Suck back drain
Nozzle - 2: O3 (MN), CO2W(MN)
Suck back drain
Nozzle - 3: IPA
Suck back drain
1 Upper nozzle N2 Purge
1 Lower nozzle N2 Purge
1 and 2 Nozzle rinse
Scan nozzle - 2:
Nozzle - 1: SC-1 (LFC), CO2W(MN)
Suck back drain
Nano spray 1: SC-1 (LFC), CO2W(MN)
Nano spray N2
Suck back drain
2 Upper nozzle N2 Purge
2 Lower nozzle N2 Purge
Back side nozzle:
Nozzle chemical dispense: DHF, SC-1, O3 ,CO2
Suck back Drain
Dispense
Fixed nozzle:
Nozzle rinse
Chuck pin rinse
Spin base rinse
Fixed cup
Exhaust duct rinse
Shutter N2 Blow
Chamber wall rinse
Shutter drive: Air cylinder
Chemical cabinet (SC-1):
Mixing tank capacity: 45 Liter
Material: PTFE Teflon
Circulation pump: Pillar / PE-20MA
Pump damper: Pillar / A20S013 / 14722-3
Temp controller: DNS Special
Heating exchange: DNS Special
Temp range: 20 ~ 80°C
(4) Flow meter
(2) Houshing filter
Chemical cabinet (DHF):
Mixing tank capacity: 45 Liter
Material: PTFE Teflon
Circulation pump: Pillar / PE-40MA
Pump damper: A40S018 / 14610-3
(2) Houshing filter
(4) Flow meter
Temp controller: KOMATSU
Heating exchange: KOMATSU
Temp range: 20 ~ 30°C
O3 Cabinet (LIQUOZON):
ASTeX GmbH PN: 14-0038-P00AA1007
DIO3 Outlet pressure: 14 - 36 psi (1.0 ~ 2.5 bar)
O2 Inlet pressure: 65 - 110 psi (4.5 ~ 7.6 bar)
CO2 Inlet pressure: 73 - 36 psi (5.0 ~ 7.6 bar)
UPW Inlet pressure: 48 - 73 psi (3.3 ~ 5.0 bar)
CDA Inlet pressure: 75 - 119 psi (5.2 ~ 8.2 bar)
Main cooling water pressure: 29 psi (2.0 bar)
Max cool water press: 73 psi (5.0 bar)
Missing parts:
Spin base: Material, Spin motor, Revolution, Acceleration, Revolution accuracy
Chuck: Chuck drive, Material, Wafer detection
Main H/D
Spin base (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
MPC board assy (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
MPC flow meter switch (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
CR ROBOT
INDEX ROBOT Servo drive
MPC - 2 (Chemical tray)
Power supply: Phase 3, 208V, 39kVA, 108A (Wire (S)+GND/PE, 50/60Hz
UPS Power supply: Phase 3, 208V, 20VA, 56A (Wire (S)+GND/PE, 50/60Hz
Power supply (4 - wire): 3/PE-200~230V ±10% 14A 50/60Hz
2014 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3200 ist eine moderne Nassstation, die in Halbleiterherstellungsprozessen zum Reinigen, Ätzen und Entwickeln von Substraten eingesetzt wird. Dieses vielseitige Werkzeug kombiniert verschiedene Funktionen in einer einzigen Plattform und bietet hohe Präzision und Effizienz bei der Bearbeitung von Wafern. Mit seinen fortschrittlichen Fähigkeiten und automatisierten Funktionen ist DNS SU3200 ein wichtiges Werkzeug bei der Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen Halbleiterbauelementen. Das Herzstück der DAINIPPON SU 3200 ist die Konstruktion zur Aufnahme mehrerer Prozessschritte in einer Einheit. Diese Nassstation umfasst verschiedene Module, einschließlich chemischer Abgabe, Spülung, Trocknung und Spinnbeschichtung, wodurch nahtlose Übergänge zwischen verschiedenen Verarbeitungsschritten möglich sind. Der modulare Aufbau von DNS/DAINIPPON SU3200 ermöglicht die Anpassung und Flexibilität an die spezifischen Anforderungen verschiedener Halbleiterherstellungsprozesse. Eines der Hauptmerkmale von DAINIPPON SU3200 ist die präzise Steuerung der Prozessparameter. Das Gerät ist mit fortschrittlichen Sensoren und Controllern ausgestattet, die wichtige Parameter wie Temperatur, Druck, Durchflussraten und Timing überwachen und anpassen. Diese Steuerung gewährleistet einheitliche und reproduzierbare Verarbeitungsergebnisse, die für die Erzielung hochwertiger Halbleiterbauelemente mit engen Spezifikationen entscheidend sind. Hinsichtlich der Reinigungsfähigkeit zeichnet sich SU3200 durch die Entfernung von Verunreinigungen von Waferoberflächen aus. Das System kann verschiedene Reinigungstechniken durchführen, wie Megasonreinigung, Bürstenreinigung und chemisches Ätzen, je nach den Anforderungen des Prozesses. Darüber hinaus verfügt DNS/DAINIPPON SU 3200 über mehrere Spülbäder mit kontrollierten Durchflussraten, um eine gründliche Entfernung von Reinigungsmitteln und Rückständen von der Waferoberfläche zu gewährleisten. DNS SU-3200 unterstützt auch Ätzprozesse zur Strukturierung und Geräteherstellung. Die Einheit kann sowohl Nassätzprozesse als auch Trockenätzprozesse abwickeln und bietet Vielseitigkeit bei der Erzeugung der gewünschten Muster auf Halbleitersubstraten. Die präzise Kontrolle von Ätzkonzentration, Temperatur und Belichtungszeit ermöglicht ein genaues und gleichmäßiges Ätzen über die Waferoberfläche. Eine weitere wichtige Funktion von SU 3200 ist seine Fähigkeit, Entwicklungsprozesse zur Photolackmusterung durchzuführen. Die Maschine kann Photoresistmaterialien auf die Waferoberfläche abgeben, sie schleudern, um eine gleichmäßige Schicht zu erzielen, und das Muster mit speziellen Chemikalien entwickeln. Diese Fähigkeit ist entscheidend für die Definition der Merkmale von Halbleiterbauelementen mit hoher Auflösung und Genauigkeit. Zusätzlich zu seinen Verarbeitungsfunktionen ist DAINIPPON SU-3200 auf Zuverlässigkeit und Benutzerfreundlichkeit ausgelegt. Das Tool verfügt über eine benutzerfreundliche Schnittstelle zur Programmierung und Überwachung von Prozessen sowie Diagnosetools zur Wartung und Fehlerbehebung von Anlagen. Die robusten Bau- und Qualitätskomponenten sorgen für langfristige Leistung und minimale Ausfallzeiten und tragen so zur Gesamtproduktivität in Halbleiterfertigungsanlagen bei. Abschließend ist SU-3200 Nassstation ein vielseitiges und effizientes Werkzeug für Halbleiterherstellungsprozesse. Mit seinen fortschrittlichen Möglichkeiten in der Reinigung, Ätzung, Entwicklung und anderen Funktionen spielt die DNS SU 3200 eine entscheidende Rolle bei der Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente. Seine Präzisionssteuerung, Flexibilität und Zuverlässigkeit machen es zu einem wertvollen Kapital in modernen Halbleiterherstellungsanlagen.
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