Gebraucht DNS / DAINIPPON WS-W625 #9115315 zu verkaufen

DNS / DAINIPPON WS-W625
ID: 9115315
System, 6" (2) Dip Tanks (1) QDR (1) SRD.
DNS/DAINIPPON WS-W625 Wet Station ist eine leistungsstarke Nassverarbeitungsstation, die eine präzise, saubere und konsistente Substrathandhabung auf umweltfreundliche Weise ermöglicht. Es verfügt über ein modernes optisches Design und proprietäre Substrathandhabungsfunktionen, die eine effiziente Wafertrocknung mit reduziertem Waferabfall und verbessertem Waferdurchsatz ermöglichen. Es ist mit mehreren Prozessstufen ausgestattet, die einen schnellen, wiederholbaren und zuverlässigen Betrieb ermöglichen. Das Nassätzverfahren besteht aus einem Wafer tragenden Roboter, der das Substrat von einer Stufe zur nächsten transportiert. DNS WS-W625 Substrathandler verfügt über einen schnellen Be- und Entladezyklus, der bis zu 500 Wafer pro Stunde handhaben kann. Es verwendet ein modernes und hochzuverlässiges Drei-Zonen-Regler-Flow-System, um genaue Gleichmäßigkeit über die gesamte Höhe des Wafers zu liefern. Dieses gewissenhaft gestaltete System verwendet eine Düse, die sich entlang der z-Achse der Düsenplatte bewegt, um die Dispersion der Flüssigkeit in einer nicht turbulenten Strömung genau zu steuern. Der Naßätzprozeß wird in zwei Stufen getaucht und behandelt. Während der Tauchstufe wird gleichzeitig ein Wafer in die gemischten Ätzflüssigkeiten getaucht, während in der Behandlungsstufe eine Oberflächenbehandlung auf den Wafer abgeschieden wird. Beide Prozesse werden von der integrierten Steuerung und Software-Suite von DAINIPPON WS-W625 verwaltet, die die Prozessparameter konfiguriert und den gesamten Betrieb automatisiert, um sicherzustellen, dass jeder Schritt nur mit höchster Präzision ausgeführt wird. WS-W625 enthält auch eine integrierte, hochliefernde, spülfreie Waschstation, um eine kontrollierte und konsistente Waferreinigung zu gewährleisten. Es verfügt über ein energieeffizientes Design, das die Betriebskosten senkt. Zusätzlich ist sein Nassschleudermodul mit einer kundenspezifischen Motorkammer ausgestattet, die höchste Spin-Effektivität gewährleistet. Der Nassätzprozess kann durch detaillierte Programmier- und Prozessoptimierungspakete angepasst werden. Diese vielseitige Nassbearbeitungsstation kann mit anderen Geräten und Systemen zu einem kompletten Workflow integriert werden. Insgesamt verfügt DNS/DAINIPPON WS-W625 Wet Station über ein herausragendes Feature-Set, das eine konsistente und genaue Nassätzverarbeitung ermöglicht. Dank des fortschrittlichen optischen Designs und der proprietären Substrathandhabungstechnologien eignet sich diese Nassstation für zuverlässige Operationen, die zu Kosteneinsparungen und verbessertem Waferdurchsatz führen. Es ist eine ideale Wahl für Präzisionswafertrocknungs- und Reinigungsanwendungen in einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen.
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