Gebraucht LAM RESEARCH DV-38DS #9095951 zu verkaufen

LAM RESEARCH DV-38DS ist eine Nassstation, die die Lieferung und Abgabe von Chemikalien mit hoher Kapazität sowie ein Vakuumfutter für nasse Prozesse kombiniert. Diese High-End-Ausrüstung wurde entwickelt, um die nassen Prozessanforderungen führender Halbleiterhersteller zu vereinfachen und zu rationalisieren. Die Integralkassetten enthalten ein integriertes chemisches Abgabesystem, das es dem Anwender ermöglicht, die angegebene Menge an Chemikalien und Abwässern direkt an die Prozesskammer für Nassätz- und Abscheidungsanwendungen zu liefern. Die intuitive Benutzeroberfläche gibt den Bedienern die Möglichkeit, den Fluss und die Abgabe von Chemikalien in die Prozesskammer zu steuern. Auf diese Weise können Anwender eine optimale Leistung bei Nassätz- und Abscheidungsprozessen erzielen. DV-38DS ist mit einem robusten Vakuum-Luftschlossfutter ausgestattet. Diese Maßnahme ermöglicht es dem Anwender, Wafer in einer Vakuumumgebung zu verarbeiten und dennoch Zugriff auf die Vakuumkammer zu haben. Dies ermöglicht eine überlegene Steuerung von Verarbeitungsparametern, was zu höheren Ausbeuten und verbesserter Prozessleistung führt. Zusätzlich ermöglicht das Spannfutter das schnelle Nachladen von Wafern, ohne die Integrität der Kammerumgebung zu beeinträchtigen. Die Luftverriegelung zwischen der Hauptvakuumkammer und der Bearbeitungskammer ermöglicht es Benutzern, Wafer leicht zwischen den beiden zu bewegen. LAM RESEARCH DV-38DS verfügt zusätzlich über ein kostengünstiges und einfach zu bedienendes Temperaturregelgerät. Diese Funktion ermöglicht es Benutzern, die Temperatur in der Kammer leicht zu verwalten und eine optimale Leistung in jedem Prozess zu gewährleisten. Zusätzlich unterstützt die Maschine einen niedrigen statischen Gasdruck in der Kammer, wodurch der Bedarf an zusätzlicher Wartung oder zusätzlicher Ausrüstung für die Gasversorgung reduziert wird. Insgesamt ist DV-38DS eine sehr vielseitige Nassstation, die alle Funktionen kombiniert, die für die fortschrittliche Waferbearbeitung in einem einzigen Werkzeug erforderlich sind. Es bietet eine breite Palette von Fähigkeiten, von der chemischen Lieferung über Temperatur und Vakuumsteuerung, während immer noch einfach zu bedienen und kostengünstig. Die Anlage ist so konzipiert, dass sie den Anforderungen führender Halbleiterhersteller gerecht wird, sodass sie die Leistung maximieren und hohe Erträge garantieren können.