Gebraucht LAM RESEARCH DV-38DS #9095952 zu verkaufen
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ID: 9095952
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Wet station, 12"
Double-sided
2007 vintage.
LAM RESEARCH DV-38DS ist eine Nassstation zur Durchführung von waferbasierten Prozessen in der Halbleiterindustrie. Es basiert auf der von LAM RESEARCH entwickelten „Dynamic Vapour Equipment“ (DVS) -Technologie und bietet unübertroffene Leistung für heutige kleine und fortschrittliche Halbleiteranwendungen. DV-38DS besteht aus einer Hauptverarbeitungskammer aus korrosionsbeständigem Edelstahl. Es ist mit Hochleistungskomponenten wie Membranpumpen, Ventilen und Sprühgeräten ausgestattet, die es extrem zuverlässig machen und maximale Genauigkeit bieten. Innerhalb der Hauptkammer befinden sich zwei voneinander unabhängige Verdampfer für eine optimierte Trägergasströmung. Ein präzises Quarzfenster ermöglicht die Integration von Bordmessgeräten. Die Station enthält auch ein integriertes Lufthubsystem, um das Rühren innerhalb der Kammer zu verbessern und die Gleichmäßigkeit zu verbessern. Die Hauptkammer ist ferner mit einer Hochleistungskühleinheit ausgestattet, um eine genaue Temperaturregelung zu gewährleisten und eine ultraglatte Reproduzierbarkeit zu gewährleisten. Die Maschine verfügt zudem über eine Feuchtigkeitsregelung, die für effiziente Abscheideprozesse entscheidend ist und die gewünschten Prozessergebnisse gewährleistet. Das Doppelzonen-Sicherheitsgehäuse mit Verriegelungen sorgt für Sicherheit und Zuverlässigkeit. LAM RESEARCH DV-38DS enthält auch ein leistungsfähiges und zuverlässiges Steuerungstool mit fortschrittlicher Automatisierungstechnologie. Dieses Asset ermöglicht eine komplexe Rezepturprogrammierung sowie eine einfache Prozessüberwachung und ermöglicht es Anwendern, zahlreiche Prozessparameter gleichzeitig zu steuern. Darüber hinaus bietet der integrierte Touchscreen eine selbsterklärende Benutzeroberfläche. Darüber hinaus ermöglicht das ausgeklügelte Fluidmanagementmodell eine flexible und kostengünstige Flüssigkeitsbehandlung. Es umfasst sowohl Ein- als auch Zweikammer-Anwendungen, die eine Druck- und Ablaufsteuerung ermöglichen. Das Gerät verfügt zudem über ein schnelles Umschaltverfahren, um einen reibungslosen Übergang zwischen ähnlichen oder verschiedenen Prozessen zu gewährleisten. Insgesamt ist DV-38DS eine ausgezeichnete Wahl für eine Vielzahl von Wafer-basierten Anwendungen. Es ist zuverlässig, effizient und einfach zu bedienen und ist eine ideale Wahl für kleinere Prozesse mit hohen Genauigkeitsanforderungen.
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