Gebraucht OHSUNG LST Aqua regia / MO #9392184 zu verkaufen

OHSUNG LST Aqua regia/MO ist eine Nassstation der OHSUNG LST Corporation, die zur Verarbeitung von Wafersubstraten entwickelt wurde. Durch elektrolytische Verfahren reinigt und ätzt die Nassstation die Waferoberfläche, um sie für den nachfolgenden Produktionsprozess vorzubereiten. Diese Nassstation ist aufgrund ihrer Fähigkeit, Wafer ohne Maskenauftrag zu bearbeiten, besonders gut für die Herstellung von Speichereinrichtungen geeignet, wodurch zusätzliche Fertigungsschritte vermieden werden. Die Nassstation besteht aus zwei Hauptmodulen, wobei das erste Modul eine Säureätzkammer und einen Elektrolytbehandlungsabschnitt enthält. Mit der Säureätzkammer wird die Oberfläche des Wafers gereinigt und anschließend das Substrat mit Aqua Regia geätzt, einer extrem starken Mischung aus Salzsäure und Salpetersäure. Der Elektrolytbehandlungsabschnitt wird für elektrochemische Behandlungen wie Galvanisieren und elektrochemisches Ätzen auf der Waferoberfläche verwendet. Das zweite Modul ist ein Mischgefäß, das die Elektrolytlösung enthält und zur Kontrolle der Konzentrationen verschiedener Chemikalien in der Lösung dient. Dieses Modul verfügt über einen präzisen Temperaturregler, der die genaue Regelung der Temperatur gewährleistet, einer der Hauptparameter für die Elektrolytbehandlung. Die Nassstation nutzt eine industrielle Stromquelle, um die beiden Kammern mit Strom zu versorgen, was den Betrieb unterschiedlichster Prozessparameter ermöglicht. Die Station wird mit einer Steuerung betrieben, die es dem Benutzer ermöglicht, eine Reihe von Prozessgrößen wie Temperatur, Spannung und Strom zu programmieren. Die Nassstation verfügt auch über eine umfassende Reihe von Sicherheitsfunktionen, die den Bediener und die Umwelt schützen sollen. Dazu gehören Sicherheitsabschaltungen, die bei Überschreitung der Grenzwerte den Prozess automatisch abschalten, und Dunstabzugshauben, die die Emission toxischer und korrosiver Dämpfe beseitigen. Aqua regia/MO ist eine fortschrittliche nasse Prozessstation, die hervorragende Ergebnisse bei der Verarbeitung von Wafersubstraten liefert. Seine präzise Temperatur- und Spannungsregelung, umfassende Sicherheitsmerkmale und fortschrittliche Prozesssteuerung machen es zu einer idealen Wahl für die Herstellung von Speichergeräten.