Gebraucht POONGNAM SEMICONDUCTOR TECH SWO-80LS #9020511 zu verkaufen

POONGNAM SEMICONDUCTOR TECH SWO-80LS ist eine Nassstation, die innovative Lösungen für die Präzisionsreinigung von Halbleiterscheiben und anderen empfindlichen Bauteilen liefert. Es wird in Halbleiter- und anderen High-Tech-Industrien verwendet, um empfindliche Komponenten zu reinigen und zu ätzen. Diese Nassstation wurde entwickelt, um Verfahrenstechnikern und Technikern eine zuverlässige und effiziente Nassreinigung zu einem sehr erschwinglichen Preis zu bieten. SWO-80LS ist mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet, um ein außergewöhnlich sauberes Ergebnis auf verschiedenen beteiligten Oberflächen zu erzielen. Die Nassstation verwendet ein vollautomatisches Waferbearbeitungssystem, um Partikel, Verunreinigungen und anderes Material sicher und effektiv von der Substratoberfläche zu entfernen. Die Funktion der Station wird auch durch ihre integrierte Hochdrucksprühdüse ermöglicht, die eine effiziente und gründliche Reinigung ermöglicht. POONGNAM SEMICONDUCTOR TECH SWO-80LS verfügt über eine integrierte Hochleistungs-Selbsthydrolyseeinheit, in der die während des Reinigungsprozesses getränkten Partikel und Verunreinigungen automatisch durch Hydrolyse entfernt werden. Die Nassstation verfügt zudem über branchenführende Rühr- und Umwälztechnologien, die eine gleichmäßige Partikelverteilung über die Substratoberfläche gewährleisten. SWO-80LS besteht auch aus fortschrittlichen Sicherheitsmerkmalen wie einer Sicherheitskontrolleinheit und einer Behälterleckschutzmaschine. Diese Funktionen sollen die Reinigungszeit reduzieren, den physischen Kontakt mit Gefahrstoffen minimieren und das Personal vor potenziellen Risiken schützen. Darüber hinaus ist die Benutzeroberfläche der Station äußerst benutzerfreundlich gestaltet und bietet eine vollständige Werkzeugsteuerung über die intuitive grafische Befehlsoberfläche. Abschließend ist POONGNAM SEMICONDUCTOR TECH SWO-80LS eine hochentwickelte Nassstation, die einen zuverlässigen und effektiven Reinigungsprozess für die Halbleiter- und andere Hightech-Industrie bietet. Diese Nassstation bietet eine breite Palette von Funktionen und Vorteilen, die den hohen Anforderungen heutiger Verfahrensingenieure und Komponentenhersteller gerecht werden. Diese Nassstation ist eine ideale All-in-One-Lösung zur Reinigung empfindlicher Substrate auf einem sehr hohen Standard.