Gebraucht RENA Wetbench #9049830 zu verkaufen

Eine RENA Wet Bench ist eine Art Laborarbeitsplatz, der für die sichere Handhabung und Verarbeitung von Wafern und anderen Substraten mit naßchemischen Prozessen konzipiert ist. Es ist in der Regel in einer Kapuzenumgebung installiert und mit einer Suite von spezialisierten Werkzeugen und Geräten wie einer Nassbank, chemischen Tanks, Oberflächenmanagementsystemen, FOUP-Systemen und Arbeitsplätzen ausgestattet. RENA Wet Bench eignet sich für eine Vielzahl von Prozessen wie Nassstreifen, Photolithographie, Ätzen, Reinigung, chemisch-mechanische Planarisierung, Abscheidung und Passivierung. Es ist aus Edelstahl gefertigt und garantiert langfristige Haltbarkeit. Dank seiner epoxidbeschichteten Basis und Seiten ist er weniger korrosionsanfällig und leichter zu reinigen als Standard-Nassbänke. Seine Basis ist leckfest und bietet dennoch wesentliche Stabilität. Es beinhaltet auch notwendige Versorgungseinrichtungen, wie Kopfabgase aus Edelstahl, Wasserspülsysteme und Bodenabläufe. Das Hauptmerkmal von Wet Bench ist seine erweiterte Arbeitsfläche für größere Substrate und Wafer mit schnell wirkenden Wischern. Es ist mit einem einstellbaren PID-System installiert, das hilft, Temperatur und Feuchtigkeit auf optimalem Niveau zu halten. Um einen konsistenten Betrieb zu gewährleisten, wird die Arbeitsfläche auf die ideale Temperatur erhitzt und gekühlt, so dass der Benutzer die durchschnittliche Wärmeübertragungsrate entsprechend seinen spezifischen Prozessanforderungen anpassen kann. RENA Wet Bench enthält auch mehrere zusätzliche Funktionen, um seine Effizienz zu erhöhen. Beispielsweise ist die Werkbank mit einem CMP-Überlaufbehälter ausgelegt, der feste Partikel oder „Feinteile“ von den in den Prozessen verwendeten Flüssigkeiten trennt. Dies hilft, die Prozessumgebung sauber zu halten und Verunreinigungen zu minimieren. Darüber hinaus ist der Arbeitsplatz mit einer Reihe von Kontrollen ausgestattet, um die genauen Chemie- und Prozessparameter zu überwachen. Dadurch wird das Verunreinigungspotenzial der Wafer minimiert, wodurch die Risiken von Produktionsverzögerungen und -mängeln im fertigen Produkt reduziert werden. Abschließend ist Wet Bench eine hocheffiziente und sichere Lösung für die Arbeit mit Substraten und Wafern im Labor. Seine robuste Konstruktion sorgt für Langlebigkeit, während seine einstellbaren Eigenschaften, Temperaturregler und erweiterte Arbeitsfläche es optimal für eine Vielzahl von Prozessen machen.