Gebraucht SCHMID 61 #9123406 zu verkaufen
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ID: 9123406
Weinlese: 2008
Chemical etcher
PSG Etching plant
Wafer details thickness: 120 - 170 μm
Format (5 Lanes): 156 x 156 mm
Wafer distance: 15 mm
Working speed: 1.14 m/min
Ambient temperature: 0 to +55°C
Media list:
HCL Hydrochloric acid
HF Hydrofluoric acid
NAOH Sodium hydroxide
HNO3 Nitric acid
H2O Water
Power supply:
Operating voltage: 400 V, 50 Hz
Voltage supply: AC/DC 20-53 V, 48-63 Hz
AC: 110-240 V +10% / -15%, 48 -63 Hz
Electrical power consumption : 58 kW
Electrical current consumption: 128 A
2008 vintage.
SCHMID 61 ist eine Nassstation, die hauptsächlich für die Verarbeitung von Flachbildschirmen zur Herstellung von Photovoltaik-Solaranlagen (PV) verwendet wird. Es wurde entwickelt, um die Oberfläche von Flachplattensubstraten wie Aluminium, Edelstahl und Kupfer zu reinigen, zu ätzen und zu aktivieren. Das System verwendet chemische Lösungsmittel, wässrige Lösungen und elektrochemische Prozesse, um die Oberfläche der Platte effektiv zu behandeln. 61 Nassstation umfasst eine Reihe von Tanks, Pumpen und ein Fördersystem, das für maximale Effizienz in der Produktion ausgelegt ist. Zu Beginn des Prozesses wird eine Platte auf den Förderer gelegt, der sie entlang einer einzigen Achse trägt. Während sich die Platte entlang des Förderers bewegt, durchläuft sie die verschiedenen Tanks, die miteinander verbunden sind. Der erste Behälter enthält das chemische Lösungsmittel, mit dem die Platte gereinigt wird. Mit einer Kombination von Strahlsprühgeräten und einer rotierenden Bürste werden alle Schmutz oder Verunreinigungen von der Plattenoberfläche entfernt. Nach dem ersten Behälter wird die Platte mit wässrigen Lösungen besprüht, um restliche Rückstände zu entfernen. Der nächste Behälter wird mit einer Ätzlösung gefüllt, mit der das Substrat weiter oxidiert wird. Der Ätzprozess hilft bei der Aktivierung der Oberfläche der Platte, um sie für die PV-Abscheidung vorzubereiten. Während sich die Platte aus diesem Tank bewegt, spült sie ein Strahlsprüher mit sauberem Wasser, um sicherzustellen, dass keine Ätzlösung übrig bleibt. Die Endstation der Nassstation ist der elektrochemische Aktivierungsbehälter. In diesem Tank wird ein elektrischer Strom durch das Substrat geleitet, was die elektrische Leitfähigkeit des Materials erhöht. Nachdem die Platte den Nassstationsprozess abgeschlossen hat, kann sie schnell zur PV-Abscheidestation transportiert werden, um eine Schutzschicht aus PV-Material aufzubringen. Die SCHMID 61 Nassstation stellt sicher, dass die Platten für die Abscheidung korrekt vorbereitet sind, um eine optimale elektrische und materielle Leistung des Endprodukts zu gewährleisten.
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