Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON UW-200Z #9124710 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON UW-200Z Nassstation ist eine hochpräzise Reinigungs- und Trocknungsanlage für Stücke von Halbleitersubstraten. Es bietet zuverlässige Leistung und effizienten Betrieb, um einheitliche, konsistente und ästhetisch ansprechende Ergebnisse zu gewährleisten. Die Nassstation bietet eine umfassende Lösung für Entfettungs-, Ätz- und Trocknungsprozesse für verschiedene Arten von Substratmaterialien. Die Station verfügt über eine schlanke, 733 mm tiefe, einteilige Konstruktion, um maximale Platzeinsparung vor einem Labor oder einer Produktionslinie zu ermöglichen. TEL UW200Z wurde für optimale Prozesseffizienz und Konsistenz konzipiert und ermöglicht eine gleichbleibende Leistung bei minimalem Eingriff des Bedieners. TOKYO ELECTRON UW 200 Z Nassstation verfügt über eine zuverlässige Dual-Waveform AC-Versorgungsstromquelle für mehr Prozessflexibilität. Es kann zum Entfetten, Ätzen und Trocknen mit zusätzlichen benutzerdefinierten Funktionen wie Rückenreinigung, Lock-in und Feldplatte (Fplate) waschen verwendet werden. Die Dual-Waveform AC Versorgung ermöglicht eine präzise Regelung der Temperatur für eine konsistentere Oberflächentrocknung. Der Zusatz einer Plattenheizfunktion trägt dazu bei, Wärmeverluste zu minimieren und eine genaue Temperaturregelung zu gewährleisten. TEL UW-200Z bietet zwei anpassbare Reinigungsprozesse: Tieftemperaturreinigung und Hochtemperaturreinigung. Der Tieftemperaturreinigungsprozess beginnt mit einem Entfettungsschritt gefolgt von einer Kaltspülung und einer Heißspülung. Dieser Prozess reduziert den Chemikalien- und Energiebedarf. Der Hochtemperatur-Reinigungsprozess nimmt eine Hintertürverbindung an und umfasst einen Säureentfettungsschritt, gefolgt von einer Heißspülung, und der Ätzprozess wird mit heißem Wasser durchgeführt. Für die Trocknung bietet TEL UW 200 Z einen Trust-in-Drying-Plan, der die Trocknungsgeschwindigkeit maximiert und die Haftung von Fremdstoffen minimiert. Der Trust-in-Drying-Plan funktioniert, indem der während des Reinigungsprozesses erzeugte Luftstrom genutzt und die Luft mit der Erwärmung kombiniert wird. Die erwärmte Luft erhöht die Wirksamkeit des Trocknungsprozesses und minimiert das Risiko von Defekten. UW-200Z ist auch mit einem optionalen Luftmessersystem ausgestattet, um Partikel und Flüssigkeit des Substrats zu trennen. Die Luftmessereinheit arbeitet mit einem Hochdruckluftstrom, um Flüssigkeit und Partikel zu trennen, wodurch das Substrat schneller und effizienter trocknen kann. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON UW200Z Nassstation eine fortschrittliche und zuverlässige Reinigungs- und Trocknungsmaschine, die den stetig steigenden Anforderungen an Qualitätskomponenten in der Halbleiterindustrie gerecht wird. Es bietet Prozessflexibilität, präzise Temperaturregelung, zwei anpassbare Reinigungsprozesse und einen effizienten Trust-in-Drying-Plan für eine außergewöhnliche Oberflächentrocknung.