Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON UW-200Z #9278993 zu verkaufen
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ID: 9278993
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2005
Batch wafer processor, 8"
Dry-in / Dry-out
Install type: Thru-The-Wall (TTW)
Automated load / Unload
Bath:
1: Citric
2: POU (Point Of Use, configurable)
3: SD2 (HF / IPA Dry)
Typical process flow: Citric -> POU (QDR) ->SD2
Includes:
Fire suppression system
UPS For computer only (installed on tool)
UPS For full system (stand-alone unit)
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-200Z ist eine Nassstation, die bei Halbleiterherstellern aufgrund ihres hohen Automatisierungsgrades beliebt ist. Sie ist als Nassstation für den chemischen Ätzprozess konzipiert, bei dem Material aus einem Halbleiterwafer entfernt wird. TEL UW200Z ist eine komplette Nassstation, die für die Aufnahme mehrerer Wafer in einem einzigen Prozess ausgelegt ist. Sein einzigartiges Design verfügt über einen stationären Großrechner auf einer beweglichen Plattform, so dass sich die nasse Station schnell zwischen Stationen bewegen kann, um mehrere Wafer gleichzeitig zu bearbeiten. Dies ermöglicht einen höheren Automatisierungsgrad, wodurch der manuelle Eingriff für den chemischen Ätzprozess reduziert wird. TOKYO ELECTRON UW 200 Z verfügt über eine App-basierte Schnittstelle, die für eine automatisierte Bewegung zwischen Stationen konfiguriert werden kann. Die App kann auch mit Rezepten geladen werden, mit denen die genauen Prozessparameter für das chemische Ätzverfahren ermittelt werden können. Die Station kann von einem einzigen Benutzer betrieben werden und kann bis zu vier Prozessbehälter gleichzeitig bereitstellen. Die Nassstation verfügt über die neueste Sicherheitstechnik, darunter eine Alarmanlage, Drehschlösser und ein Mustersystem. Die Mustereinheit ermöglicht es Benutzern, eine akustische Benachrichtigung zu erhalten, wenn die Station ihren Endpunkt erreicht. Darüber hinaus verfügt die Station über eine Lüftungsmaschine, um zu verhindern, dass chemische Dämpfe abfließen. UW 200 Z ist eine zuverlässige Nassstation mit einer beeindruckenden Verarbeitungsgeschwindigkeit. Es kann bis zu vier Wafer innerhalb einer einzigen Charge verarbeiten und kann so eingestellt werden, dass Chargen kontinuierlich für die kontinuierliche Produktion wiederholt werden. Die Station wird von einem AC100V an 220V Stromquelle angetrieben und ist für den Einsatz in einer Reinraumumgebung konzipiert. Insgesamt ist TEL UW 200 Z eine zuverlässige Nassstation, die sich perfekt für das automatisierte chemische Ätzen mehrerer Wafer eignet. Seine fortschrittlichen Funktionen wie automatisierte Bewegung, App-gesteuerte Schnittstelle und Sicherheitsfunktionen machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für die Herstellung von Halbleiterprodukten.
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