Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON UW-300 #9098652 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON UW-300
ID: 9098652
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
Wet bench, 12" 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-300 ist eine Nassstation zur Prozessentwicklung und Geräteherstellung in der Halbleiterindustrie. Diese Nassstation ist für den Einsatz in Niederdruckverfahren wie Flachgrabenisolierung (STI) und Flachgrabenetch (STE) konzipiert. Es ist auch in der Lage, komplexe Strukturen zu produzieren, die in Technologien wie 3DIC und MEMS verwendet werden. TEL UW-300 verfügt über eine einzigartige, hochtemperatur-, Niederdruck-Prozesskammerausrüstung aus Quarz und Edelstahl auf einem starren Rahmen, der hilft, Temperaturschwankungen in der gesamten Kammer zu minimieren und die Gleichmäßigkeit zu gewährleisten. Sein fortschrittliches Plasmasystem wurde entwickelt, um eine hochwirksame Niederdruckverarbeitungsumgebung zu erzeugen, die es ideal für Ätzprozesse macht. TOKYO ELECTRON UW-300 verfügt auch über eine Reihe von Prozesssteuerungs- und Sicherheitsmerkmalen. Dazu gehören eine automatische Prozesssteuerung, die Temperatur, Druck und andere Prozessparameter überwacht und regelt, und eine patentierte elektrische Entladungsunterdrückungsvorrichtung, die die Prozessintegrität und -sicherheit aufrechterhält. UW-300 verfügt über eine Reihe von Funktionen, die es zu einer vielseitigen Wahl für Prozessanwendungen machen. Es kann bis zu vier Prozesskammern mit jeweils einer anderen Prozesskammergasfördereinheit und einem eingebauten Gaskrümmer und Vakuumpumpen aufnehmen, so dass es eine Vielzahl von Prozessgasen gleichzeitig handhaben kann. Seine programmierbare Computersteuerung ist in der Lage, bis zu acht verschiedene Waferrezepte und Parameter zu handhaben, was eine schnelle und einfache Einrichtung komplexer Prozesse und Bedingungen ermöglicht. Darüber hinaus ist TEL/TOKYO ELECTRON UW-300 mit einer intuitiven Benutzeroberfläche konzipiert, die Benutzern die Möglichkeit bietet, aktuelle Prozessinformationen zu überprüfen und bei Bedarf Anpassungen vorzunehmen. Diese nasse Station ist auch so konzipiert, dass sie pflegeleicht und sauber ist. Es verfügt über einen automatisierten Wafer-Lader/Entlader, der die Notwendigkeit reduziert, Wafer manuell zu laden und zu entladen, und es hat eine integrierte Wafer-Transfer-Roboter-Maschine, so dass die Bereinigung von Prozessresten schnell und einfach erfolgen kann. Darüber hinaus verfügt TEL UW-300 über eine eingebaute chemikalienbeständige Sprühdüse zur effektiven Reinigung von Bearbeitungskammer und Quarzrohr. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON UW-300 eine fortschrittliche Nassstation, die einheitliche Prozess- und Sicherheitsmerkmale für die Prozessentwicklung und Geräteherstellung bietet. Seine Vielseitigkeit und Bequemlichkeit macht es zu einer großen Wahl für den Einsatz in der Halbleiterindustrie.
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