Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON UW-300Z #9267289 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON UW-300Z
ID: 9267289
Wet station.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-300Z ist eine Nassstation, die für eine Vielzahl von Halbleiterprozessen wie Waferreinigung, Ätzen und Dünnschichtabscheidung geeignet ist. Es ist sowohl mit nassen als auch trockenen Prozessen kompatibel und ermöglicht seinen Einsatz in Anwendungen von der flachen Trenchisolierung (STI) bis zum chemisch-mechanischen Polieren (CMP). TEL UW300Z verfügt über ein automatisiertes Werkzeugsteuerungssystem, das eine automatisierte Planung von Werkzeugen und Prozessen sowie einheitliche Chemien über mehrere Werkzeuge hinweg ermöglicht. TOKYO ELECTRON UW 300Z Gehäuse ist aus robustem Edelstahl gefertigt, und die Prozesskammer ist ein Low-Profile-Design, das Wafer bis zu 300mm Durchmesser aufnimmt. Es verfügt auch über ein einfach zu bedienendes, intuitiv gestaltetes Touchscreen-Display, das sich auf der Vorderseite des Geräts befindet und die Bedienung der Prozesse vereinfacht. TEL/TOKYO ELECTRON UW 300 Z verfügt auch über eingebaute Sicherheitsmerkmale, wie einen Sicherheitslichtvorhang am Gehäuse, der Bedienungspersonen am Zugang zur Prozesskammer hindert, um sie vor gefährlichen Chemikalien oder Materialien zu schützen. Prozesschemisch können UW- 300Z verschiedene Naßätzverfahren wie HF (Fluorwasserstoffsäure), NaOH (Natriumhydroxid) und KOH (Kaliumhydroxid) unterstützen. Mit dem Nassätzverfahren kann die Oberfläche eines Wafers gereinigt und Nanostrukturen auf dessen Oberfläche gemustert werden. Zusätzlich kann TEL UW 300Z auch zum Aufbringen dünner Filme auf die Oberfläche eines Wafers verwendet werden, wie zum Beispiel Aluminiumfolien, die in Solarzellen eingesetzt werden. Für die Bedienersicherheit ist TEL/TOKYO ELECTRON UW 300Z mit einer Türverriegelung ausgestattet, die die Bedienungspersonen daran hindert, die Prozesskammer zu betreten, während sich der Wafer im Labor befindet. Darüber hinaus verfügt TOKYO ELECTRON UW300Z auch über eine Auspuffhaube, um sicherzustellen, dass kontaminierte Luft ordnungsgemäß aus der Laborumgebung ausgestoßen wird. Darüber hinaus umfasst UW-300Z auch ein bordseitiges Partikelüberwachungssystem, das den Partikelstand in der Prozesskammer kontinuierlich überwacht und eine Echtzeit-Prozessüberwachung ermöglicht. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON UW 300 Z eine ideale Nassstationslösung für Halbleiteranwendungen. Es ist leicht und dennoch robust im Design und bietet ein automatisiertes Werkzeugsteuerungssystem mit integrierten Sicherheitsfunktionen, die den Bediener im Labor sicher halten. Darüber hinaus ist TEL UW 300 Z mit einer Vielzahl von Prozesschemien und Dünnschichtabscheidungen kompatibel, was es zu einer ausgezeichneten Wahl für eine Vielzahl von Industrie- und Forschungsanwendungen macht.
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