Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON UW-300Z #9314664 zu verkaufen

ID: 9314664
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
Wet station, 12" TOADK AQM-100A Resistivity meter measuring system MITSUBISHI Q06UDHCPU PLC Gas: H2O2, NH4OH, H2SO2, HCL, IPA Temperature controller SRM Tank Exhaust unit Main PC Robot: RL: VEXTA AKD514H-A / VEXTA PK596AW1-A11 UD: Oriental ARD-A / Oriental ARM98MC-A4 FF-20BT1-T8 Pump MA901-8FK29-88-3 Heater Signal tower: (4) Colors (GYWR) PATLITE LED (2) Teach pendants (Main / Spin dry) Missing parts UPS: 208 V, 50 A, Single phase Power supply: 208 V, 3-Phase, 150 A 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UW-300Z ist eine Nassstation, die speziell für den Einsatz in nasschemischen Verarbeitungsanwendungen wie Photolithographie und Entwicklung entwickelt wurde. TEL UW300Z ist eine robuste und zuverlässige Einheit, die einfach zu bedienen ist und eine ausgezeichnete Lebensdauer für die anspruchsvollsten Nassverarbeitungsanwendungen bietet. Das Gerät bietet ein hohes Maß an Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit und kann bis zu 300 Wafer in einer einzigen Charge verarbeiten. Die Nassstation verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche und integriert sich eng mit anderen TEL-Nassverarbeitungsgeräten. Herzstück dieser Nassstation ist eine hochmoderne, voll motorisierte Wafer-Palettenlader-Ausrüstung, die eine große Flexibilität im Wafertransport ermöglicht. Der Lademechanismus ist für eine Vielzahl von Wafergrößen von 100mm bis 300mm ausgelegt. Die Wafer werden während des Transports sicher gehalten, um sicherzustellen, dass sie mechanisch stabil bleiben und das Risiko einer möglichen Partikelverunreinigung zu verringern. TOKYO ELECTRON UW 300Z verfügt zudem über einen Wafer-Handling-Roboter, der mit einem voll einstellbaren Dreipunktverstellsystem die Wafer zur Verarbeitung exakt ausrichtet. TEL/TOKYO ELECTRON UW 300 Z ist auch mit einer Reihe von fortschrittlichen Sicherheits- und Umweltschutzmerkmalen ausgestattet. Um sicherzustellen, dass die heißen Oberflächentemperaturen im Betrieb in akzeptierten Grenzen bleiben, ist eine beheizte Luftabdeckung vorgesehen. Das Gerät verfügt außerdem über einen Durchflusssensor zur Überwachung und Steuerung der Zufuhr von Chemikalien zur Nassstation. Dadurch wird sichergestellt, dass die genaue Menge an Chemikalien speziell auf die Prozessanforderungen zugeschnitten ist und das Risiko von Chemieabfluss oder Verschütteten reduziert. Um hohe Ausbeute zu gewährleisten, verfügt TOKYO ELECTRON UW300Z auch über eine Reihe ausgeklügelter Fehlererkennungs- und Präventionssysteme. Die Einheit beinhaltet eine eingebaute Partikeldetektionseinheit zur Erkennung und Identifizierung von Ablagerungen auf den bearbeiteten Wafern. Die Einheit kann auch konfiguriert werden, um wichtige Prozessparameter wie Temperatur und Druck zu messen, um Prozessanomalien zu erkennen, bevor sie Defekte oder schlechte Ausbeuten verursachen. UW-300Z bietet alle Funktionen, die für eine effiziente Nassverarbeitung erforderlich sind. Durch die Kombination einer motorisierten Lademaschine und eines Wafer-Handling-Roboters mit fortschrittlichen Sicherheits- und Fehlerverhinderungssystemen bietet TEL UW-300Z modernste Prozesssteuerung und Wiederholbarkeit für die anspruchsvollsten Anwendungen der nasschemischen Verarbeitung.
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