Gebraucht RIGAKU Wafer X-300 #9145497 zu verkaufen

RIGAKU Wafer X-300 ist ein hochmodernes Röntgengerät für hochenergetische Anwendungen. Der Hauptzweck des Systems besteht darin, die physikalischen Eigenschaften von Materialien wie Dehnung, Dotierung und Textur im atomaren oder nahezu atomaren Maßstab zu messen. Das Gerät nutzt eine Hochenergiequelle und einen großflächigen Szintillator, um hochauflösende Bilder von Proben mit einer Dicke von bis zu 7 nm zu erzeugen. Die Quelle von RIGAKU WAFERX 300 ist ein 100 keV Röntgengenerator, der eine breite Palette von Röntgenwellenlängen erzeugt. Dies ermöglicht die Untersuchung von heterogenen Materialien und Strukturen bis zu einer Dicke von 7 nm. Die Maschine wird durch ein speziell entwickeltes Bedienfeld gesteuert, das eine präzise Regelung der Röntgendosis, Strahlausrichtung und Belichtungszeit ermöglicht. Der für Wafer X-300 Bilddetektor verwendete Szintillator ist ein großflächiger (260 x 215 cm) und wellenlängenselektiver Szintillator aus einem Cadmium-Zink-Tellurid (CZT) -Material. Der Szintillator ist in der Lage, Röntgenphotonen mit Energien bis zu 100 keV zu detektieren. Der Detektor hat auch eine hohe Quanteneffizienz, mit einer Detektionseffizienz von bis zu 95% für hochenergetische Röntgenstrahlen. Neben dem Quell- und Bilddetektor umfasst WAFERX 300 auch eine automatisierte Probenhandlingplattform. Diese Plattform ermöglicht das automatisierte Be- und Entladen von Proben aus dem Werkzeug. Die Plattform verfügt auch über mehrere spezielle Probenmanipulatoren, die eine externe Probenmanipulation oder Handhabung ohne manuellen Eingriff ermöglichen. Das Asset ist flexibel gestaltet und ermöglicht eine individuelle Anpassung. RIGAKU Wafer X-300 kann mit einer Reihe von Detektoren, Röntgenquellen, Objektiven und Leuchtstoffen konfiguriert werden. Darüber hinaus ist ein anpassbares Softwarepaket zur Datenerfassung, Bildverarbeitung, Analyse und Berichterstattung enthalten. Insgesamt ist RIGAKU WAFERX 300 ein hochentwickeltes Röntgenmodell, das sich für eine Vielzahl energiereicher Anwendungen eignet. Das Design des Geräts vereint eine Reihe fortschrittlicher Funktionen, darunter eine Hochenergiequelle, wellenlängenselektiver Szintillator und automatisierte Probenbelastung und -manipulation. Wafer- X-300 ist in der Lage, hochauflösende Bilder von heterogenen Proben bis zu einer Dicke von 7 nm zu erzeugen, was es zu einem unschätzbaren Werkzeug für die Materialforschung macht.